[发明专利]电子照相感光构件、处理盒、电子照相设备和酞菁晶体

权利要求书

1.一种电子照相感光构件，其包括：

支承体；和

形成在所述支承体上的感光层；

所述电子照相感光构件的特征在于，所述感光层包括酞菁晶体，在所述酞菁晶体内含有由下式(1)表示的化合物：

其中，

R¹表示甲酰基、烯基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、或取代或未取代的杂环基团，条件是取代的芳基的取代基不为乙酰基或苯甲酰基。

2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中

式(1)中R¹为甲酰基、烯基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、或取代或未取代的杂环基团；

取代的烷基的取代基为烷氧基、吗啉代烷氧基、二烷基氨基、烷氧羰基、取代或未取代的芳基、芳氧基、取代或未取代的杂环基团、卤素原子、氰基或吗啉代基；

取代的芳基的取代基为烷基、烷氧基、二烷基氨基、烷氧羰基、卤素原子、硝基、氰基、甲酰基或吗啉代基；和

取代的杂环基团的取代基为烷基、烷氧基、二烷基氨基、烷氧羰基、卤素原子、硝基、氰基、甲酰基或吗啉代基。

3.根据权利要求2所述的电子照相感光构件，其中

式(1)中R¹为取代或未取代的烷基，和

取代的烷基的取代基为烷氧基、吗啉代烷氧基、二烷基氨基、烷氧羰基、芳基、芳氧基、卤素原子、氰基、或吗啉代基。

4.根据权利要求3所述的电子照相感光构件，其中式(1)中R¹为甲基，乙基，或丙基。

5.根据权利要求2所述的电子照相感光构件，其中

式(1)中R¹为取代或未取代的苯基，和

取代的苯基的取代基为烷基、卤素原子、氰基、或硝基。

6.根据权利要求5所述的电子照相感光构件，其中式(1)中R¹为未取代的苯基。

7.根据权利要求1至6任一项所述的电子照相感光构件，其中所述酞菁晶体为镓酞菁晶体。

8.根据权利要求7所述的电子照相感光构件，其中所述镓酞菁晶体为在晶体内含有N,N-二甲基甲酰胺的镓酞菁晶体。

9.根据权利要求7或8所述的电子照相感光构件，其中所述镓酞菁晶体为羟基镓酞菁晶体。

10.根据权利要求9所述的电子照相感光构件，其中所述羟基镓酞菁晶体为在CuKα辐射的X-射线衍射中在布拉格角2θ为7.4°±0.3°和28.3°±0.3°处具有峰的羟基镓酞菁晶体。

11.根据权利要求1至10任一项所述的电子照相感光构件，其中所述酞菁晶体中由式(1)表示的所述化合物的含量为0.1质量％以上且3.0质量％以下。

12.一种可拆卸地安装至电子照相设备的主体的处理盒，其特征在于，所述处理盒一体化支承：

根据权利要求1至11任一项所述的电子照相感光构件；和

选自由充电装置、显影装置、转印装置和清洁装置组成的组中的至少一种装置。

13.一种电子照相设备，其特征在于，包括：

根据权利要求1至11任一项所述的电子照相感光构件；

充电装置、图像曝光装置、显影装置和转印装置。

14.一种酞菁晶体，其特征在于，在所述酞菁晶体内含有由下式(1)表示的化合物：

其中R¹表示甲酰基、烯基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、或取代或未取代的杂环基团，条件是取代的芳基的取代基不为乙酰基或苯甲酰基。