[发明专利]平移X射线射束发射分布图整形器

权利要求书

1.一种成像系统(300)，包括：

辐射源(308)，其被配置为在扫描期间发出在检查区域的方向中穿过的辐射；

探测器阵列(316)，其定位为在所述检查区域的对侧与所述辐射源相对，所述探测器阵列被配置为在所述扫描期间探测穿过所述检查区域的辐射并且产生指示所述辐射的信号；

射束整形器(318)，其定位于所述辐射源与所述检查区域之间，所述射束整形器被配置为限定穿过所述检查区域的辐射射束的通量强度分布图，

其中，所述射束整形器包括多个X射线衰减元件(326)，所述多个X射线衰减元件被配置为对入射于其上的X射线进行衰减，所述多个X射线衰减元件与多个无材料区域交错，所述多个无材料区域使X射线不被衰减地通过，并且

其中，所述X射线的透射在较接近所述射束整形器的中心区域相对于所述射束整形器的端部区域更大；以及

射束整形器移动器(328)，其被配置为在所述扫描的至少一个采集间隔期间平移所述射束整形器，

其中，所述射束整形器移动器被配置为在所述至少一个采集间隔期间平移所述射束整形器的所述多个X射线衰减元件以将衰减跨所述至少一个采集间隔展开。

2.根据权利要求1所述的成像系统，所述射束整形器移动器，包括：

至少一个移动器，其定位于所述射束整形器的至少一个端部处并且固定到所述至少一个端部，其中，所述至少一个移动器被配置为控制所述平移。

3.根据权利要求1所述的成像系统，所述射束整形器移动器，包括：

至少一个移动器，其定位于所述射束整形器的至少一个端部处并且固定到所述射束整形器的至少一个侧面，其中，所述至少一个移动器被配置为控制所述平移。

4.根据权利要求1所述的成像系统，所述射束整形器移动器，包括：

至少一个移动器，其定位于所述射束整形器的至少一个侧面处，其中，所述至少一个移动器被配置为控制所述平移。

5.根据权利要求1所述的成像系统，其中，所述射束整形器移动器被配置为在单个方向中平移所述射束整形器。

6.根据权利要求1所述的成像系统，其中，所述射束整形器移动器被配置为在多于一个方向中平移所述射束整形器。

7.根据权利要求6所述的成像系统，其中，所述射束整形器移动器被配置为在多于一个方向中同时地平移所述射束整形器。

8.根据权利要求1至7中的任一项所述的成像系统，其中，所述射束整形器移动器被配置为在所述至少一个采集间隔期间以预先确定的频率向后及向前平移所述射束整形器。

9.根据权利要求1至7中的任一项所述的成像系统，其中，所述射束整形器移动器被配置为通过可控地振动所述射束整形器来平移所述射束整形器。

10.根据权利要求1至7中的任一项所述的成像系统，其中，所述射束整形器移动器被配置为在所述至少一个采集间隔期间平移所述射束整形器的所述多个X射线衰减元件近似等于X射线衰减元件的宽度的距离。

11.根据权利要求1至7中的任一项所述的成像系统，其中，在所述至少一个采集间隔期间，平移所述射束整形器被配置为降低在所述探测器处的通量分布图中的强度波动。

12.根据权利要求1至7中的任一项所述的成像系统，其中，在所述至少一个采集间隔期间，平移所述射束整形器被配置为减轻遮蔽伪影。