[发明专利]光学光子线路耦合有效

专利信息
申请号: 201380060537.0 申请日: 2013-06-26
公开(公告)号: CN104797963B 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: E·M·默罕默德;P·L·张;I·班 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: G02B6/12 分类号: G02B6/12;G02B6/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘瑜;王英
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 光学 光子 线路 耦合
【权利要求书】:

1.一种光学装置,包括:

硅衬底;

被设置在所述硅衬底上的掩埋氧化层;

被设置在所述掩埋氧化层上的硅波导结构;

成角度地设置在所述硅波导结构的第一端的镜面结构;

覆盖所述掩埋氧化层和所述硅波导结构的氧化层;以及

具有窄端和宽端的锥形波导,所述窄端被设置在所述镜面上方,所述锥形波导从所述窄端在与所述硅波导结构垂直的方向上延伸穿过所述氧化层,

其中,所述镜面被成角度地设置为相对于所述锥形波导和所述硅波导结构二者成大约四十五度。

2.根据权利要求1所述的装置,还包括与所述硅波导结构的第二端对齐的光学元件。

3.根据权利要求2所述的装置,其中,所述光学元件为光发射机和光接收机中的一种或多种。

4.根据权利要求2所述的装置,其中,所述光学元件包括一个或多个光放大器。

5.根据权利要求1所述的装置,还包括终结所述锥形波导的宽端的微透镜。

6.根据权利要求5所述的装置,其中,所述微透镜被配置为与透镜光纤配合。

7.根据权利要求1所述的装置,其中,所述镜面为内部全内反射镜面。

8.根据权利要求1所述的装置,其中,所述镜面为外部镜面。

9.根据权利要求1到8中的任一项所述的装置,其中,所述锥形波导定位在锥形波导阵列之内。

10.一种制造光学装置的方法,包括:

在硅衬底上形成掩埋氧化层;

在所述掩埋氧化层上形成硅波导结构;

在所述硅波导结构的第一端蚀刻成角度的表面;

对所述成角度的表面进行金属化;

在所述掩埋氧化层和所述硅波导结构上方沉积氧化层;

在所述氧化层中形成具有窄端和宽端的锥形通孔,所述窄端被设置在所述成角度的表面上方,所述锥形通孔在与所述硅波导结构垂直的方向上从所述窄端延伸;以及

利用聚合物填充所述锥形通孔。

11.根据权利要求10所述的方法,还包括构建与所述硅波导结构的第二端对齐的光学元件。

12.根据权利要求11所述的方法,其中,使光发射机和光接收机中的一个或多个与所述硅波导结构的第二端对齐。

13.根据权利要求11所述的方法,其中,使光放大器与所述硅波导结构的第二端对齐。

14.根据权利要求10所述的方法,还包括在所述锥形通孔的宽端上方形成微透镜。

15.根据权利要求14所述的方法,其中,所述微透镜被配置为与透镜光纤配合。

16.根据权利要求10到15中的任一项所述的方法,其中,所述成角度的表面相对于所述锥形通孔和所述硅波导结构二者成大约四十五度。

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