[发明专利]单片式线性玻璃偏光器和衰减器有效

专利信息
申请号: 201380060341.1 申请日: 2013-11-18
公开(公告)号: CN104969095A 公开(公告)日: 2015-10-07
发明(设计)人: R·加福司;J·王 申请(专利权)人: 康宁股份有限公司
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115;G02F1/09;G02B5/20;G02B5/22;G02B5/30
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 乐洪咏;沈端
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 单片 线性 玻璃 偏光 衰减器
【权利要求书】:

1.一种集成的单片式线性偏光器/衰减器元件,其包含在其中具有偏振粒子的玻璃偏光器,沉积在所述玻璃偏光器至少一个表面上的多层光衰减(LA)涂层和沉积在所述光衰减涂层上的多层减反射(AR)涂层;

所述LA涂层包含多个周期的高折射率材料H和低折射率材料L,L选自非零吸光且折射率大于1.7的金属氧化物和混合金属氧化物,而H是硅;以及

所述AR涂层包括多个周期的H'L',其中H'是n大于1.7的高折射率材料而L'是n小于或等于1.7的低折射率材料;

所述元件在1200-1700nm波长范围内具有大于0dB到3dB的衰减;并且

所述偏振粒子选自银、铜和铜/镉。

2.如权利要求1所述的集成的单片式线性偏光器/衰减器元件,其中所述玻璃偏光器还包含选自铂、钯、锇、铱、铑和钌的贵金属,按零价金属所测所述贵金属的存在量在0.0001wt.%~0.5wt.%。

3.如权利要求1所述的集成的单片式线性偏光器/衰减器元件,其中在1200-1700nm波长范围内所述衰减为0.5dB到3dB。

4.如权利要求1所述的集成的单片式线性偏光器/衰减器元件,其中所述LA涂层材料L选自ITO、Cr2O3、ZnO、HfO2、Yb2O3、Nb2O3和GeO2

5.如权利要求4所述的集成的单片式线性偏光器/衰减器元件,其中至少一种LA涂层材料L的折射率大于2。

6.如权利要求4所述的集成的单片式线性偏光器/衰减器元件,其中至少一种LA涂层材料L的折射率大于2.2。

7.如权利要求1所述的集成的单片式线性偏光器/衰减器元件,其中所述多层衰减涂层包括至少一层厚度在250nm~600nm的ITO层,至少一层厚度在20nm~200nm的Cr2O3层,和至少一层厚度在20nm~700nm的硅层。

8.如权利要求1所述的集成的单片式线性偏光器/衰减器元件,其中所述AR高折射率材料H'选自:ZrO2、HfO2、Ta2O5、Nb2O5、TiO2、Y2O3、Si3N4、SrTiO3和WO3

9.如权利要求1所述的集成的单片式线性偏光器/衰减器元件,其中所述AR低折射率材料L'选自:SiO2、掺氟SiO2和Al3O3

10.一种集成式光学隔离器/衰减器,其包含第一和第二偏振元件以及置于第一偏振元件后、第二偏振元件前用于旋转光的法拉第旋转器,所述集成式光学隔离器/衰减器能使来自光源的光束偏振并衰减;

所述偏振元件中的至少一个偏振元件是包含玻璃偏光器的单片式玻璃偏光器/衰减器元件,在玻璃偏光器上沉积有多层光衰减(LA)涂层并在所述LA涂层上沉积有多层减反射(AR)涂层;

第二偏振元件的偏振轴偏离第一偏振元件的偏振轴,偏离度数为光被法拉第旋转器旋转的度数;以及

所述光学隔离器/衰减器衰减入射光的量为大于0dB到3dB;

其中:

所述多层IL涂层材料包含高折射率材料H和至少一种低折射率材料L,选自硅的材料作为H,而选自折射率大于1.7的金属和混合金属氧化物的材料作为L,且所述衰减涂层的总厚度为300nm~1500nm;并且

所述多层AR涂层包括多个周期的H'L',其中H'是折射率大于1.7的金属氧化物材料而L'是折射率低于或等于1.7的金属氧化物材料,且所述减反射涂层的总厚度在700nm~1500nm。

11.如权利要求10所述的集成式光学隔离器/衰减器,其中所述衰减为0.5dB~3dB。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于康宁股份有限公司,未经康宁股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380060341.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top