[发明专利]HDD用玻璃基板及其制造方法以及信息记录介质的制造方法有效

专利信息
申请号: 201380060277.7 申请日: 2013-12-17
公开(公告)号: CN104798132B 公开(公告)日: 2019-05-10
发明(设计)人: 岛津典子 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: G11B5/84 分类号: G11B5/84
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: hdd 玻璃 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种HDD用玻璃基板的制造方法,其特征在于包括:

精密研磨工序,使用含有胶体二氧化硅的研磨液对玻璃基板进行研磨,直到由AFM测量的表面粗糙度Ra成为以下为止,其中由AFM测量的范围是各边1μm的正方形;

超声波清洗工序,利用超声波对所述精密研磨工序后的玻璃基板进行清洗;

浸渍工序,将所述超声波清洗工序后的玻璃基板浸渍于含有分散剂的溶液中;以及

擦洗工序,对所述浸渍工序后的玻璃基板进行擦洗,

对所制造的所述HDD用玻璃基板由AFM测量主表面的表面粗糙度Ra,此后进行将该HDD用玻璃基板浸渍于温度为40℃且pH值为11的NaOH溶液中30分钟的碱处理,再次由AFM测量主表面的表面粗糙度Ra,碱处理前后的主表面的所述表面粗糙度Ra的变化量的值为以下。

2.根据权利要求1所述的HDD用玻璃基板的制造方法,其特征在于还包括:

在所述精密研磨工序后将玻璃基板浸渍于含有分散剂且pH为6.5至8.5的溶液中5分钟以上的副浸渍工序,其中,

在所述副浸渍工序后进行所述超声波清洗工序。

3.根据权利要求1所述的HDD用玻璃基板的制造方法,其特征在于还包括:在所述擦洗工序后将玻璃基板浸渍于含有分散剂且pH为6.5至8.5的溶液中5分钟以上的副浸渍工序。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的HDD用玻璃基板的制造方法,其特征在于,

所述浸渍工序是在含有分散剂且pH为6.5至8.5的溶液中浸渍5分钟以上的浸渍工序。

5.根据权利要求4所述的HDD用玻璃基板的制造方法,其特征在于:

含有所述分散剂的溶液的pH为7至8.5,

所述分散剂含有选自由聚乙烯醇、改性聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、丙烯酸聚合物、甲基丙烯酸聚合物、丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸共聚物、聚丙烯酰胺聚合物、聚甲基丙烯酰胺聚合物、聚丙烯酰胺共聚物、聚甲基丙烯酰胺共聚物、乙二醇、磷酸系表面活性剂、磺酸系表面活性剂、羧酸系表面活性剂和非离子表面活性剂构成的组中的一个或多个化合物。

6.根据权利要求4所述的HDD用玻璃基板的制造方法,其特征在于:在所述浸渍工序中溶液的pH低于6.5的情况下,通过添加调整剂来将pH调整为6.5至8.5。

7.根据权利要求4所述的HDD用玻璃基板的制造方法,其特征在于:所述浸渍工序中的溶液的pH为7.0至8.0。

8.根据权利要求4所述的HDD用玻璃基板的制造方法,其特征在于:在所述浸渍工序中,对溶液的浸渍时间为120分钟以下。

9.一种信息记录介质的制造方法,其特征在于:在根据权利要求1至8中任一项所述的HDD用玻璃基板的制造方法制得的HDD用玻璃基板的表面上,至少形成磁性膜。

10.一种HDD用玻璃基板,其特征在于:在对所述HDD用玻璃基板进行将该HDD用玻璃基板浸渍于温度为40℃且pH值为11的NaOH溶液中30分钟的碱处理之前和进行碱处理之后的由AFM测量而算出的主表面的表面粗糙度Ra的变化量的值为以下。

11.根据权利要求10所述的HDD用玻璃基板,其特征在于:附着于所述主表面的胶体二氧化硅的数量为5以下。

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