[发明专利]含宽分子量分布聚丙烯树脂的制品

说明书

发明领域

聚丙烯树脂和由其制造的制品。

背景技术

聚丙烯典型地不适合于在生产各种薄膜中使用。通过典型的齐格勒-纳塔聚合形成的丙烯均聚物的物理性能高度取决于聚合物本身的立构规整度。立构规整度高的聚合物通常是结晶的，提供所需的高弯曲模量，且采用合适地选择的给电子体形成。这些高度结晶的聚合物还显示出高熔点，但固有地显示出低的熔体流动速率(MFR)，这使得它们通常不适合于要求高的加工速率的应用，例如注塑，取向薄膜和热粘纤维中。进一步地，由高度结晶的聚丙烯形成的常规的聚丙烯均聚物和共聚物产品缺少用于许多用途的充足的抗冲击性。聚丙烯薄膜还遭受胶凝问题，从而使得他们不适合于许多薄膜应用。

由基于邻苯二甲酸酯或其他含芳烃的内给电子体体系，和硅烷或二醚类外给电子体的常规齐格勒-纳塔催化剂制造的聚丙烯均聚物或抗冲共聚物树脂导致范围为3-4.5的分子量分布(MWD)，和正因为如此，它们具有非常低的熔体强度且在熔体中在伸长拉伸下没有证据表明应变硬化。分子量分布范围为3-4.5的树脂因熔体强度差，导致不适合于转化工艺，例如在单层或多层应用中的吹胀薄膜应用。在压片，深度拉伸的热成形和发泡应用中观察到类似的行为。这种聚合物不适用的要求良好的熔体强度的其他转化应用包括型材挤塑，热塑性硫化橡胶(TPV)用基本原料，双轴取向聚丙烯(BOPP)薄膜，和吹塑应用等。

本领域需要具有一种或多种性能的聚丙烯树脂，例如改进的熔体强度，和改进的劲度等。还需要适合于在吹胀薄膜中，在作为HDPE的替代的多层应用中，压片，在浅拉伸和深度拉伸应用中热成形和/或发泡应用中的这种聚丙烯树脂。

相关参考文献包括EP 0 757 069 A1；EP 2 000 504 A1；US 2003-088022；US 2007-054997；US 2008-311368；US 6,602,598；US 5,907,942；US 2003-118853；US 5,752,362；WO 2007/130277；WO 98/44011；和WO 2010/034461。

发明概述

在根据本发明公开内容的多个实施方案中，薄膜包括聚丙烯树脂，其中该聚丙烯树脂包括至少50mol％丙烯，MWD(Mw/Mn)大于5，支化指数(g′)为至少0.95，和使用拉伸流变仪，在190℃下测定的熔体强度大于20cN，其中该薄膜是挤出吹塑薄膜，流延薄膜，或其组合。

提供这一发明概述，引入在下述详细说明中进一步描述的选择概念。这一发明概述并不意欲鉴定要求保护的主题的关键或重要特征，也并不意欲用作限制要求保护的主题的范围的辅助手段。通过参考本说明书之后的权利要求，将理解本发明的其他和进一步的目的，优点和特征。

附图简述

图1是绘制根据本发明公开内容生产的丙烯树脂的特性粘度对分子量的图表。

图2示出了根据本发明公开内容生产的丙烯树脂的复数粘度对角频率的图表。

详细说明

可在某些齐格勒-纳塔催化剂，非芳族的内给电子体，和两种外给电子体的共混物存在下进行的单段聚合中生产具有改进的熔体强度，MWD和高MFR的原位聚合的材料(例如，聚丙烯)。所得聚丙烯树脂使用拉伸流变仪，在190℃下测定的熔体强度为至少20cN或至少30cN，支化指数(g′)至少0.95，和MWD(Mw/Mn)大于5。该齐格勒-纳塔催化剂体系包括含非芳族的内给电子体的齐格勒-纳塔催化剂，以及含不同有机基硅化合物的第一和第二外给电子体。第一外给电子体的化学式可以为R¹₂Si(OR²)₂，其中每一R¹独立地为含1-10个碳原子的烃基，其中与Si相邻的碳是仲或叔碳原子，和其中每一R²独立地为含1-10个碳原子的烃基。第二外给电子体的化学式可以为R³_nSi(OR⁴)_4-n，其中每一R³和R⁴独立 地为含1-10个碳原子的烃基，n为1，2，或3，和第二外给电子体不同于第一外给电子体。