[发明专利]基于功率需要的并行RF发射中的RF放大器控制在审
| 申请号: | 201380052739.0 | 申请日: | 2013-10-01 |
| 公开(公告)号: | CN104755951A | 公开(公告)日: | 2015-07-01 |
| 发明(设计)人: | U·卡切尔;H·H·霍曼;P·博尔纳特 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号: | G01R33/483 | 分类号: | G01R33/483;G01R33/561;G01R33/565 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光颖;王英 |
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 功率 需要 并行 rf 发射 中的 放大器 控制 | ||
1.一种用于从对象(101)中的靶体积采集磁共振数据的磁共振成像MR系统(100),所述磁共振成像系统(100)包括:
-多个激励器件(201),其用于生成以所述靶体积中的切片/厚片空间变化为靶向的切片选择性/或厚片选择性空间射频RF激励磁场,以及
-控制器(219),其被耦合到所述多个激励器件(201),其中,所述控制器(219)适于:
○确定由用于生成所述切片选择性/或厚片选择性空间RF激励磁场的所述多个激励器件(201)所需要的功率水平,
○将所述切片选择性/或厚片选择性空间RF激励磁场分解成所述多个激励器件(201)的相应的RF激励组成部分(201),
○控制所述多个激励器件(201)中的每个,以使用用于采集所述磁共振数据的所确定的功率水平来同时生成所述相应的RF激励组成部分。
2.根据权利要求1所述的磁共振成像系统,其中,对由所述多个激励器件(201)所需要的所述功率水平的所述确定包括:接收指示所述功率水平的数据,所述功率水平是使用基于用于在所述对象(101)的模型上施加所述切片选择性/或厚片选择性空间射频RF激励磁场的所述激励器件的模型的RF模拟来估计的。
3.根据权利要求1所述的磁共振成像系统,其中,对由所述多个激励器件(201)所需要的所述功率水平的所述确定包括:控制所述MRI系统(100)以使用所述切片选择性空间RF激励磁场来采集来自所述对象(101)的预扫描的预扫描数据,并且使用所述预扫描数据来确定所述功率水平。
4.根据权利要求1-3中的任一项所述的磁共振成像系统,其中,所述控制器还适于计算与所述切片选择性RF激励磁场相关联的特定吸收比率SAR值,其中,控制所述多个激励器件(201)中的每个包括控制所述多个激励器件(201)中的每个,以在所述SAR值低于预定的SAR水平的情况下同时生成所述相应的RF激励组成部分。
5.根据权利要求1-4中的任一项所述的磁共振成像系统,还包括:RF放大器(215),其用于将电流供应到所述多个激励器件(201)中的每个,所述RF放大器(215)输出部被连接到每个激励器件;以及电源(217),其被耦合到所述RF放大器(215)来将根据所确定的功率水平的第一电平处的电压供应到所述RF放大器输出部,以生成所述激励器件中的电流来发射所述切片选择性空间RF激励。
6.根据权利要求5所述的磁共振成像系统,其中,所述控制器还适于:
-控制生成以所述靶体积中的二维空间变化为靶向的二维空间选择性RF激励,
-控制所述电源以将所述电压调节到生成所述二维空间选择性RF激励所需要的第二电平。
7.根据权利要求5或6所述的磁共振成像系统,其中,所述控制器还适于:
-控制生成以所述靶体积中的三维空间变化为靶向的三维空间选择性RF激励,
-控制所述电源以将所述电压调节到生成所述三维空间选择性RF激励所需要的第三电平。
8.根据权利要求5-7所述的磁共振成像系统,其中,所述控制器(219)是对所述电源(217)和/或所述RF放大器(215)的添加模块。
9.根据前述权利要求中的任一项所述的磁共振成像系统,其中,对由所述多个激励器件(201)所需要的所述功率水平的所述确定包括将所述功率水平确定为由用于生成所述相应的RF激励组成部分的所述多个激励器件中的每个所需要的所述个体功率水平的总和。
10.根据前述权利要求中的任一项所述的磁共振成像系统,其中,所述多个激励器件(201)包括发射阵列线圈,所述发射阵列线圈包括多个RF发射线圈。
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