[发明专利]适用于膜应用的线型低密度组合物以及由其制备的膜在审

专利信息
申请号: 201380052364.8 申请日: 2013-10-01
公开(公告)号: CN104704041A 公开(公告)日: 2015-06-10
发明(设计)人: M·卡普;J·王;A·A·巴夫纳;T·M·坦布林;R·N·赖伯 申请(专利权)人: 陶氏环球技术有限责任公司
主分类号: C08L23/04 分类号: C08L23/04
代理公司: 北京市嘉元知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11484 代理人: 陈静
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 适用于 应用 线型 密度 组合 以及 制备
【权利要求书】:

1.适用于膜应用的线型低密度聚乙烯组合物,其包含:

小于或等于100重量%源自乙烯的单元;

小于35重量%源自一种或多种α-烯烃共聚单体的单元;

其中所述线型低密度聚乙烯组合物的密度为0.905至0.925g/cm3,分子量分布(Mw/Mn)为2.5至4.5,熔体指数(I2)为0.1至3g/10分钟,分子量分布(Mz/Mw)为2.2至3,乙烯基不饱和度小于0.1个乙烯基/1000个存在于所述组合物主链中的碳原子,以及零剪切粘度比率(ZSVR)为1至1.2。

2.一种包含线型低密度聚乙烯组合物的膜,所述组合物包含:

小于或等于100重量%源自乙烯的单元;

小于35重量%源自一种或多种α-烯烃共聚单体的单元;

其中所述线型低密度聚乙烯组合物的密度为0.905至0.925g/cm3,分子量分布(Mw/Mn)为2.5至4.5,熔体指数(I2)为0.1至3g/10分钟,分子量分布(Mz/Mw)为2.2至3,乙烯基不饱和度小于0.1个乙烯基/1000个存在于所述组合物主链中的碳原子,以及零剪切粘度比率(ZSVR)为1至1.2。

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