[发明专利]用于制造集成电路装置、光学装置、微机械及机械精密装置的组合物

权利要求书

1.水性组合物的用途，其用于使涂覆于半导体基板上的光阻层显影以获得线间距尺寸为50nm或小于50nm且纵横比为2或大于2的图案化光阻层，所述组合物包含在溶剂中的式I的季铵化合物

其中

(a)R¹选自式-X-CR¹⁰R¹¹R¹²的C₄-C₃₀有机基团，其中R¹⁰、R¹¹及R¹²独立地选自C₁-C₂₀烷基，且R¹⁰、R¹¹及R¹²中的两者或三者可一起形成环体系，且

R²、R³及R⁴选自R¹或C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀羟烷基、C₁-C₃₀氨基烷基或C₁-C₂₀烷氧基烷基，且X为化学键或C₁-C₄二价有机基团，或

(b)R¹及R²独立地选自式IIa的有机基团

其中Y¹为C₄-C₂₀烷二基，且R³及R⁴选自R¹或C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀羟烷基、C₁-C₃₀氨基烷基或C₁-C₂₀烷氧基烷基，且X为化学键或C₁-C₄二价有机基团，或

(c)R¹、R²、R³及R⁴中的至少两者一起形成饱和双环或三环C₅-C₃₀有机环体系，且其余R³及R⁴若存在则一起形成单环C₅-C₃₀有机环体系或选自C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀羟烷基、C₁-C₃₀氨基烷基或C₁-C₂₀烷氧基烷基，且X为化学键或C₁-C₄二价有机基团，或

(d)其组合，

其中Z为抗衡离子且z为整数，其经选择以使得整体庞大季铵化合物不带电荷，且其中所述溶剂基本上由水组成。

2.根据权利要求1的水性组合物的用途，其中R¹中的R¹⁰、R¹¹及R¹²独立地选自C₁-C₈烷基且R²、R³及R⁴独立地选自C₁-C₄烷基。

3.根据权利要求1的水性组合物的用途，其中

R¹、R²独立地选自环己基、环辛基或环癸基，其可未经取代或经C₁-C₄烷基取代，且

R³、R⁴独立地选自C₁-C₄烷基。