[发明专利]空间光调制器及曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种空间光调制器及曝光装置。

背景技术

有一种空间光调制器，由光刻技术制成，通过静电能驱动由钮铰链支撑的镜子(参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献1：日本特开平09-101467号公报

发明内容

发明要解决的问题

空间光调制器由于具有由基板支撑浮起的镜子的立体结构，因此在制造过程中，有时无法形成从基板到镜子的良好的电接合。

用于解决问题的手段

本发明第一技术方案提供一种空间光调制器基板，包括：基板；固定电极，设置于基板的表面上；连结部，一端与表面相连结；可动部，与连结部的另一端相连结，通过连结部的弹性形变而相对于基板摆动；支柱部，一端与可动部相接合，沿基板的厚度方向延伸，与可动部一体摆动；反射部件，与支柱部的另一端相接合，具有与可动部及支柱部一体摆动的反射面；可动电极，设置于反射部件的面向固定电极的面上；导体层，具有比可动电极的膜厚大的膜厚，设置在支柱部上，将可动部与可动电极之间电接合。

本发明第二技术方案提供另一种空间光调制器，包括：基板；固定电极，设置于基板的表面上；连结部，一端与表面相连结；可动部，与连结部的另一端相连结，通过连结部的弹性形变而相对于基板摆动；反射部件，包含半导体层并具有与可动部一体摆动的反射面；金属层，与所述半导体层相邻接；欧姆结部，将半导体层与金属层进行欧姆连结。

本发明第三技术方案提供又一种空间光调制器，包括：基板；连结部，一端与基板的表面相连结；可动部，与连结部的另一端相连结，通过连结部的弹性扭转变形而以连结部为摆动轴相对于基板摆动；反射部件，与可动部一体摆动；可动电极，设置于反射部件的面向表面的面上；固定电极，设置于表面的面向可动电极的区域上，且不被连结部及可动部遮挡。

本发明第四技术方案提供一种曝光装置，具备上述空间光调制器。

另外，上述发明的概要并未列举出本发明的全部可能特征，所述特征组的子组合也有可能构成发明。

附图说明

图1为表示空间光调制器100的外观的示意图。

图2为表示空间光调制元件200单独的外观的立体图。

图3为空间光调制元件200的分解立体图。

图4为空间光调制元件200的截面图。

图5为空间光调制元件200的截面图。

图6为空间光调制元件200的截面图。

图7为空间光调制元件200的截面图。

图8为制造过程中的空间光调制元件200的截面图。

图9为制造过程中的空间光调制元件200的截面图。

图10为制造过程中的空间光调制元件200的截面图。

图11为制造过程中的空间光调制元件200的截面图。

图12为制造过程中的空间光调制元件200的截面图。

图13为制造过程中的空间光调制元件200的截面图。

图14为制造过程中的空间光调制元件200的截面图。

图15为制造过程中的空间光调制元件200的截面图。

图16为制造过程中的空间光调制元件200的截面图。

图17为制造过程中的空间光调制元件200的截面图。

图18为制造过程中的空间光调制元件200的截面图。

图19为制造过程中的空间光调制元件200的截面图。

图20为制造过程中的空间光调制元件200的截面图。

图21为制造过程中的空间光调制元件200的截面图。

图22为制造过程中的空间光调制元件200的截面图。

图23为空间光调制元件201的截面图。

图24为制造过程中的空间光调制元件201的截面图。

图25为制造过程中的空间光调制元件201的截面图。

图26为制造过程中的空间光调制元件201的截面图。

图27为制造过程中的空间光调制元件201的截面图。

图28为制造过程中的空间光调制元件201的截面图。

图29为制造过程中的空间光调制元件201的截面图。

图30为空间光调制元件201的截面图。

图31为制造过程中的空间光调制元件202的截面图。

图32为制造过程中的空间光调制元件202的截面图。

图33为制造过程中的空间光调制元件202的截面图。