[发明专利]自清洁光学系统有效
申请号: | 201380031313.7 | 申请日: | 2013-05-16 |
公开(公告)号: | CN104428654B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | F.奥赖利;K.费伊;P.谢里登 | 申请(专利权)人: | 都柏林大学;爱尔兰都柏林国立大学 |
主分类号: | G01N21/15 | 分类号: | G01N21/15;G02B27/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 吴俊 |
地址: | 爱尔兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洁 光学系统 | ||
1.一种用于向处理区域透射光和/或从处理区域反射光的自清洁光学系统,该系统包括液池和能够绕非竖直轴线持续转动的透射或反射光学部件,所述光学部件的下部持续转动穿过液池,从而当所述光学部件从液池中出来时,在该光学部件上会残留液体覆层,该液体覆层在所述光学部件的至少一部分处形成基本均匀的薄膜,光透过该薄膜,或者从该薄膜反射。
2.如权利要求1所述的光学系统,其中,所述光学部件容纳于真空外罩中,真空外罩具有开口,该开口与真空室中的配合开口之间能够以真空密封的方式连接,处理过程在真空室中发生,其中,真空外罩的外壁具有透明窗体,光在其光路上穿过该窗体到达具有所述基本均匀的薄膜的所述光学部件的所述一部分,或从所述光学部件的所述一部分传来并透过该窗体。
3.如权利要求1所述的光学系统,其中,所述光学部件形成真空外罩的外壁,真空外罩具有开口,该开口与真空室中的配合开口之间能够以真空密封的方式连接,处理过程在真空室中发生。
4.如权利要求1所述的光学系统,其中,所述光学部件是圆形对称的,并且旋转轴线穿过该光学部件的对称中心。
5.如权利要求4所述的光学系统,其中,所述光学部件的中心安装到转轴上,该转轴使所述光学部件旋转。
6.如权利要求1所述的光学系统,其中,所述光学部件通过该光学部件的边缘被转动。
7.如权利要求1所述的光学系统,其中,液池中的液体覆在所述光学部件的仅一侧上,或者覆在光学部件的两侧上。
8.如权利要求1所述的光学系统,其中,所述光学部件包括平面透明圆片、透镜、镜子和透明筒体之一。
9.如权利要求1所述的光学系统,还包括用于冷却和/或加热液池中的液体的装置。
10.如权利要求1所述的光学系统,其中,所述光包括激光,所述处理是真空处理。
11.如权利要求1所述的光学系统,其中,所述液体是具有小于2000厘沲的运动粘度的油。
12.如权利要求1所述的光学系统,还包括脉冲激光EUV光源。
13.如权利要求1所述的光学系统,还包括用于控制所述液体覆层的厚度的附加机构。
14.如权利要求2所述的光学系统,其中,所述系统配置为保持所述液体的厚度,从而针对相对于窗体法向以至少一个角度穿过所述光学系统的至少一个波长产生至少部分防反射覆层。
15.如权利要求1所述的光学系统,还包括至少部分地布置在液池中的液体表面之下并附在所述光学部件的表面上以便从该光学部件去除任何微粒的机构。
16.一种脉冲激光沉积系统,结合有如权利要求1所述的光学系统。
17.一种激光加工系统,结合有如权利要求1所述的光学系统。
18.一种等离子体沉积系统,结合有如权利要求1所述的光学系统。
19.一种等离子体刻蚀系统,结合有如权利要求1所述的光学系统。
20.一种沉积系统,结合有如权利要求1所述的光学系统。
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