[发明专利]用于墙体和墙衬的建筑元件及该元件的生产方法有效
| 申请号: | 201380027043.2 | 申请日: | 2013-05-23 |
| 公开(公告)号: | CN104471159A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
| 发明(设计)人: | 埃吉迪奥·德卢卡;恩扎·迪诺亚 | 申请(专利权)人: | 埃吉迪奥·德卢卡;恩扎·迪诺亚 |
| 主分类号: | E04C2/04 | 分类号: | E04C2/04;E04F13/14 |
| 代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 孙静;王漪 |
| 地址: | 意大利圣*** | 国省代码: | 意大利;IT |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 墙体 建筑 元件 生产 方法 | ||
发明领域
本发明涉及用于墙体和墙衬的建筑元件及该元件的制造方法。DE10160665代表建筑元件的一个实例,其特征在权利要求1的前序部分中描述。
发明背景
天然石灰被认为是天然水硬性石灰砂浆。其通过在约1000℃的温度下在竖直烤炉中烧制泥灰石灰石获得。在研磨之前长时间的熄灭和熟化发生。当铺设时,使石灰粉末与水混合直到获得均匀、柔软且无块的糊是足够的。
近年来,天然石灰已经被放弃,有利于如通过使组分塑化获得的更容易铺设且更耐用的新材料。
近年来,天然石灰由于多种原因被重新评估。
首先,如其名称所指示,天然石灰是自古代以来就已知的天然产物,其中,在无毒性方面,我们建立了一定的信心。
其次,天然石灰是透气的,因此防止可以使得环境不健康的湿气积累。
石灰被更经常使用的另一原因与其耐火性有关。实际上,其具有1级的耐火性,即其被分类在较少可燃性的材料中。
此外,天然石灰具有约0.54W/mK的非常差的导热率。
最重要的是,凭借这种后面的性质,石灰被越来越经常地用来生产热内衬,即用于住宅的外部内衬,以便减少被涂覆的墙体的传导性。为了这个目的,其常常与具有隔热特性的集料比如颗粒状软木、天然纤维或人造纤维比如聚苯乙烯等等混合。凭借这些混合,如此组成的石灰通常称为“减轻的”,因为这些集料通常具有比石灰更低的比重。
然而,使用减轻的石灰是费劲的,因为其需要在最佳设置条件下干燥至少24小时,并且因为每个铺展层的厚度不可以超过2cm。在冬季期间干燥时间可以进一步增加。
此外,在尝试一次铺设多于2cm时,不美观的坳陷和突出物常常在竖直墙体上形成。
例如,隔热的外部包层可以提供铺设与8cm一样多的天然石灰。这意指必须产生至少4层。
还必须考虑的是,天然石灰不具有大的机械强度,因此必须提供铺设至少一种网状物,以便防止形成裂纹和边缘裂纹。此外,风和坏天气的影响通常倾向于非常快地降解石灰的最表面层。
发明概述
本发明的目的是提供用于墙体和墙衬的建筑元件,所述建筑元件允许获得天然石灰的优点同时最小化其缺点,所述缺点包括其铺设费劲及低的机械强度。
根据权利要求1,本发明的目的是用于墙体和墙衬的建筑元件。
本发明的另一目的是大体上通过以上描述的建筑元件伴随着在减轻的天然石灰层的自由面中添加另一层内衬获得的夹层幕墙元件(sandwich curtain wall element)。
本发明的另一目的是示出生产所述内衬元件的方法,所述方法允许非常快速地获得在形式和终饰(finish)两个方面上具有均匀特性的所述元件。
根据权利要求9,本发明的另一目的是生产用于墙体的内衬元件的方法。
从属权利要求描述本发明的优选实施方案,形成本说明的整体部分。
附图的简要描述
根据在附图的帮助下通过非限制性实施例的方式例证的用于墙体的内衬元件的优选但非排他的实施方案的详细描述,本发明另外的特征和优点将变得更明显,其中:
图1代表根据本发明的建筑元件的厚度的横截面视图;
图2代表根据图1的相同视图的建筑元件的变体;
图3示出根据图1的相同视图的建筑元件的另外的变体;
图4示出根据图1的相同视图的建筑元件的另一变体。
在附图中,相同的参考数字和字母识别相同的元件或组件。
发明的优选实施方案的详细描述
根据本发明,内衬元件1包括意图停留在视野范围内的第一层11内衬材料和至少第二层12减轻的石灰。见图1。
根据本发明的第一个实施方案,所述第一层由所谓的薄石材制成。薄石材由通过树脂层支撑的坚硬石材的非常薄的片组成,其中薄意指从零点几毫米到几毫米。
通过将可能由纤维玻璃网状物支撑的树脂层胶粘到天然石脊比如砂岩、火山石、石英岩等的表面上获得此薄石材层。在树脂干燥时,由于附接到树脂的网状物,石材的薄层完全从脊上撕下。因此,获得的石材的薄板坯不具有完全光滑的表面,但相反,由于其从脊的其他层中除去,其具有天然的粗糙度。
一段时间以来,使用薄石材已经是已知的,但通常一直与由具有蜂巢状空腔的内侧通常为中空的铝面板界定的支撑结构有关。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于埃吉迪奥·德卢卡;恩扎·迪诺亚,未经埃吉迪奥·德卢卡;恩扎·迪诺亚许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380027043.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:脉冲电化学抛光方法及装置
- 下一篇:一种基于热敏电阻的超辐射发光二极管





