[发明专利]用于定制屈光手术的自动机器设置有效
申请号: | 201380023658.8 | 申请日: | 2013-06-14 |
公开(公告)号: | CN104379096A | 公开(公告)日: | 2015-02-25 |
发明(设计)人: | 阿尔明·韦尔赫费尔 | 申请(专利权)人: | 视乐有限公司 |
主分类号: | A61F9/00 | 分类号: | A61F9/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 金晓 |
地址: | 德国埃*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 定制 手术 自动 机器 设置 | ||
技术领域
本发明涉及眼科设备,包括:至少一个可配置部件;以及控制器,用于根据所存储的登陆用户的用户简档来配置所述至少一个可配置部件。
背景技术
在眼科领域,在眼外科手术、治疗和诊断过程中采用一个或多个眼科装置。尽管大多数装置可以针对患者进行调节,例如可以将患者的床或椅子向上和向下移动,但是这些装置并不是另外可配置的。
发明内容
本发明的实施例的目的是提供一种眼科设备,该眼科设备向用于提供改进的处理和操作。
根据本发明的一个方面,眼科设备包括:休息构件,配置为向患者提供休息支撑;以及眼科装置,配置为相对于在休息构件上休息的患者的眼睛执行一个或多个过程,其中所述一个或多个过程包括眼外科手术、治疗和诊断过程中的至少一个。所述设备还包括:用户接口装置,配置为从用户接收登录数据;以及控制器,配置为基于所述登录数据来访问存储的用户简档数据,并且根据所访问的用户简档数据来配置所述设备的一个或多个可配置部件。
在实施例中,所述一个或多个可配置部件包括照明装置,其中所述控制器配置为根据所访问的用户简档数据来调节由照明装置提供的照明光的亮度。
在实施例中,一个或多个可配置部件包括一个或多个位置可变部件,其中控制器配置为根据所访问的用户简档数据来调节所述一个或多个位置可变部件的中至少一个的位置。
所述位置可以包括水平位置、垂直位置和角位置的中至少一个。
在实施例中,所述一个或多个位置可变部件包括休息构件,其中休息构件对于休息构件的休息表面的高度、休息表面的水平位置和休息表面的倾斜度的中至少一个是可变的。控制器可以配置为根据所访问的用户简档数据来调节休息表面的高度、水平位置和倾斜度中的至少一个。
在实施例中,一个或多个位置可变部件包括眼科装置的一个或多个位置可变构件,其中所述控制器配置为根据所访问的用户简档数据来调节所述一个或多个位置可变构件的中至少一个的位置。
在实施例中,所述眼科装置配备有具有一对目镜的显微镜,其中目镜对的中至少一个目镜是相对于所述目镜对的另一个目镜是位置可变的,以改变目镜对之间的相互距离。在这种情况下,所述控制器可以配置为根据所访问的用户简档数据来调节所述目镜对之间的相互距离。
在实施例中,所述眼科装置配备有辐射发射头,用于朝着患者的眼睛发射光辐射,其中所述辐射发射头是高度可变的,并且所述控制器配置为根据所访问的用户简档数据来调节所述辐射发射头的高度。
在实施例中,所述辐射发射头是相对于休息构件的休息表面高度可变的,并且所述控制器配置为根据所访问的用户简档数据来调节辐射发射头相对于休息表面的高度。
根据本发明的另一个方面,公开了一种配置眼科设备的方法。所述眼科设备至少包括:休息构件,向患者提供休息支撑;眼科装置,对在休息构件上休息的患者眼睛执行一个或多个过程,所述一个或多个过程包括眼外科手术、治疗和诊断过程中的至少一个;以及用户接口装置。所述方法包括:在所述用户接口装置上从用户接收登录数据;基于所述登录数据来访问存储的用户简档数据;以及根据所访问的用户简档数据来配置所述眼科设备的一个或多个可配置部件。
在实施例中,所述一个或多个可配置部件包括照明装置,其中配置步骤包括:根据所访问的用户简档数据来调节由照明装置提供的照明光的亮度。
在实施例中,一个或多个可配置部件包括一个或多个位置可变部件,并且所述配置步骤包括:根据所访问的用户简档数据来调节所述一个或多个位置可变部件的中至少一个的位置。
在实施例中,所述一个或多个位置可变部件包括休息构件,其中休息构件对于休息构件的休息表面的高度、休息表面的水平位置和休息表面的倾斜度的中至少一个是可变的。在该实施例中,所述配置步骤包括:根据所访问的用户简档数据来调节休息表面的高度、水平位置和倾斜度中的至少一个。
在实施例中,一个或多个位置可变部件包括眼科装置的一个或多个位置可变构件,并且所述配置步骤包括:根据所访问的用户简档数据来调节所述一个或多个位置可变构件中的至少一个的位置。
在实施例中,所述眼科装置配备有辐射发射头,用于朝着患者的眼睛发射光辐射,其中所述辐射发射头是高度可变的。在该实施例中,所述配置步骤包括:根据所访问的用户简档数据来调节所述辐射发射头的高度,和/或根据所访问的用户简档数据来调节辐射发射头相对于休息构件的休息表面的高度。
附图说明
下面将参考附图更加详细地描述本发明的实施例,其中:
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