[发明专利]光学泵浦垂直外腔表面发射激光设备有效
| 申请号: | 201380021857.5 | 申请日: | 2013-04-11 |
| 公开(公告)号: | CN104247174B | 公开(公告)日: | 2018-02-16 |
| 发明(设计)人: | S.格罗恩博尔恩;M.米勒 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号: | H01S5/04 | 分类号: | H01S5/04;H01S5/14;H01S5/42;H01S3/08;H01S5/022;H01S5/024;H01S5/026;H01S5/183;H01S5/00 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 张同庆,景军平 |
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 垂直 表面 发射 激光设备 | ||
1.一种光学泵浦垂直外腔表面发射激光设备,包括至少一个垂直外腔表面发射激光器(200)和若干泵浦激光二极管(300),
所述垂直外腔表面发射激光器(200)包括
- 叠层,其至少形成垂直外腔表面发射激光器(200)的第一端镜(107,105)和有源区(108),以及
- 第二端镜(410),其形成垂直外腔表面发射激光器(200)的外腔,
所述泵浦激光二极管(300)被布置成通过在镜元件(400)处反射泵浦辐射(310)而光学地泵浦所述有源区(108),
其中所述镜元件(400)布置在垂直外腔表面发射激光器(200)的光轴(210)上,并且被设计成将所述泵浦辐射(310)聚集在有源区(108)中并且同时形成垂直外腔表面发射激光器(200)的第二端镜(410),其中泵浦激光二极管(300)被布置成朝镜元件(400)定向基本上平行于光轴(210)的泵浦辐射,使得泵浦激光二极管(300)提供的泵浦光斑自动地与垂直外腔表面发射激光器(200)的光模对准。
2.依照权利要求1的设备,
其中所述泵浦激光二极管(300)为垂直腔表面发射激光器。
3.依照权利要求1或2的设备,
其中所述泵浦激光二极管(300)在第一芯片上形成,并且垂直外腔表面发射激光器(200)的所述叠层在第二芯片上形成,所述第一和第二芯片安装在公共基板或者散热器(501)上。
4.依照权利要求2的设备,
其中所述垂直腔表面发射激光器以及垂直外腔表面发射激光器(200)的所述叠层在相同芯片上形成。
5.依照权利要求4的设备,
其中所述垂直腔表面发射激光器以及垂直外腔表面发射激光器(200)的所述叠层起源于芯片上的相同层序列(100,103-109)。
6.依照权利要求5的设备,
其中所述层序列(100,103-109)包括形成垂直腔表面发射激光器的层结构的第一层序列(103-106)以及形成垂直外腔表面发射激光器(200)的叠层的层结构的第二层序列(107-109),所述第一和第二层序列通过蚀刻停止层(100)分离。
7.依照权利要求1的设备,
其中所述镜元件(400)包括形成所述第二端镜的中心区(410)以及被设计成将所述泵浦辐射(310)反射和聚集到垂直外腔表面发射激光器(200)的有源区(108)中的外部区(420,421)。
8.依照权利要求7的设备,
其中所述中心区和所述外部区以不同的曲率形成。
9.依照权利要求1的设备,
其中所述镜元件(400)的所述外部区(420,421)被设计成在垂直外腔表面发射激光器(200)的有源区(108)中生成泵浦辐射(310)的强度分布,所述强度分布与垂直外腔表面发射激光器(200)的激光模式匹配。
10.依照权利要求1的设备,
其中所述镜元件(400)的所述中心区(410)被设计成在垂直外腔表面发射激光器(200)中生成不具有高斯强度剖面的激光模式。
11.依照权利要求1的设备,
其中所述镜元件(400)的主体由对于垂直外腔表面发射激光器(200)的激光辐射光学透明的材料制成。
12.依照权利要求1的设备,
其中所述泵浦激光二极管(300)被布置成朝所述镜元件(400)发射基本上平行于垂直外腔表面发射激光器(200)的光轴(210)的所述泵浦辐射(310)。
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