[发明专利]耐溶剂性聚合物膜

权利要求书

1.一种用于制备聚合物膜的可辐射固化组合物，其包含

a) 膜聚合物，其选自聚砜 (PSU), 聚醚砜 (PES), 聚醚醚酮 (PEEK), 聚氯乙烯 (PVC), 聚丙烯腈 (PAN), 聚偏氟乙烯 (PVDF), 聚酰亚胺 (PI), 聚酰胺 (PA)和其共聚物；

b) 具有至少四个自由基可聚合基团的疏水性单体或低聚物，所述可聚合基团独立地选自丙烯酸酯基, 甲基丙烯酸酯基, 丙烯酰胺基, 甲基丙烯酰胺基, 苯乙烯基, 乙烯醚基, 乙烯酯基, 马来酸酯基, 富马酸酯基, 衣康酸酯基, 和马来酰亚胺基;

c) 用于膜聚合物和疏水性单体或低聚物的有机溶剂；和

至少一种光引发剂，其选自酰基氧化膦光引发剂。

2.根据权利要求1的可辐射固化组合物，其中所述膜聚合物选自聚砜, 聚醚砜, 聚酰亚胺和聚醚醚酮。

3.根据权利要求1至2任一项的可辐射固化组合物，其中所述疏水性单体或低聚物的自由基可聚合基团选自丙烯酸酯基和甲基丙烯酸酯基。

4.根据权利要求2的可辐射固化组合物，其中所述膜聚合物为具有根据式(I)的重复单元的聚砜：

-Ar1-SO₂-Ar2-X-(R1-Y)_n- 式 (I),

其中:

Ar1和Ar2代表芳基；

Ar1和Ar2可以代表相同的芳基或不同的芳基；

X和Y独立地选自氧、硫、胺基和被取代或未被取代的亚甲基；

n为代表0或1的整数；

R1选自芳基和根据式 (II)的基团:

-Ar3-Z-Ar4-式(II),

其中:

Ar3和Ar4代表芳基；

Ar3和Ar4可以代表相同的芳基或不同的芳基；

Z代表选自O、S(O)_m和被取代或未被取代的亚甲基的基团；和

m是代表0或1的整数。

5.根据权利要求1的可辐射固化组合物，其中所述聚合物和所述疏水性单体或低聚物之间的重量比为10比1 至1比1。

6.根据权利要求1的可辐射固化组合物，其中所述聚合物和所述至少一种光引发剂之间的重量比为12比1 至1比1。

7.用于制备聚合物膜的方法，其按顺序包括如下步骤：

a) 制备根据权利要求1至6任一项的可辐射固化组合物；

b) 在多孔载体上涂布可辐射固化组合物层；

c) 将该涂布层相转化；和

d) 通过光化辐射固化所述相转化的涂布层。

8.根据权利要求7的方法，其中步骤b)通过辊对辊涂布进行。

9.根据权利要求7或8的方法，其包括步骤e)，即通过将所述固化聚合物膜浸入含有调节剂和溶剂的溶液中来调节所述聚合物膜。