[实用新型]玻璃整面镀膜治具有效

专利信息
申请号: 201320833023.1 申请日: 2013-12-16
公开(公告)号: CN203715502U 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 余成 申请(专利权)人: 睿志达光电(深圳)有限公司
主分类号: C03C17/00 分类号: C03C17/00
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 罗伟平
地址: 518100 广东省深圳市宝安区龙华街道东环*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 玻璃 镀膜
【说明书】:

技术领域:

本实用新型涉及玻璃加工辅助工具技术领域,尤其涉及一种玻璃整面镀膜治具。

背景技术:

目前,薄板玻璃广泛用于手机、平板电脑等数码产品的触控屏中,具有保护LCD、透光性好、装饰触控屏外观等作用。随着我国手机、平板电脑等数码产品的大力发展,薄板玻璃的需要量日益增多,且薄板玻璃的种类和尺寸也越来越多,这对玻璃的性能及尺寸精度提出了更高的要求,不仅要求玻璃的尺寸精度高、装备误差小、强度和刚度高、材料均匀,而且要求玻璃生产效率高、速度快。数码设备使用的玻璃片产品一般需要利用镀膜设备进行镀膜处理以提高使用效果,现有对玻璃进行整面镀膜的治具结构复杂,取放料时玻璃容易与治具碰撞卡料,取放料操作麻烦,加工效率低。

实用新型内容:

本实用新型的目的就是针对现有技术存在的不足而提供一种能够结构简单、防止玻璃碰撞和卡料、提高加工效率的玻璃整面镀膜治具。

为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:

玻璃整面镀膜治具,它包括有治具基板,治具基板上开设有至少一个贯穿治具基板上下两端面的矩形玻璃放置槽,玻璃放置槽的侧壁表面涂覆有一层防刮伤层,玻璃放置槽的侧壁底部向内侧凸伸有支撑台阶,玻璃放置槽的侧壁顶部周缘设置斜面形成倒角结构。

所述支撑台阶环绕玻璃放置槽的底部一周设置。

所述支撑台阶凸伸出的宽度为0.4~0.6mm。

所述治具基板的厚度为5~6mm,斜面的高度与治具基板的厚度的比例为1/4~1/3,支撑台阶的高度与治具基板的厚度的比例为1/4~1/3。

所述防刮伤层为铁氟龙材质。

所述防刮伤层的厚度为0.05mm。

所述斜面的倾斜角度为30~40度。

所述玻璃放置槽为多个,多个玻璃放置槽沿直线方式均匀分布。

本实用新型有益效果在于:本实用新型包括有治具基板,治具基板上开设有至少一个贯穿治具基板上下两端面的矩形玻璃放置槽,玻璃放置槽的侧壁表面涂覆有一层防刮伤层,玻璃放置槽的侧壁底部向内侧凸伸有支撑台阶,玻璃放置槽的侧壁顶部周缘设置斜面形成倒角结构,使用时,将玻璃放置在玻璃放置槽中,玻璃放置槽的斜面起到导向作用,使得玻璃在取放料时不会与治具基板碰撞,防止卡料,取放料操作方便快捷,加工效率高,同时支撑台阶能够支撑玻璃使玻璃平稳放置在玻璃放置槽中,能够同时对玻璃上下两面进行镀膜处理,镀膜方便,效率高,并且防刮伤层能够防止玻璃刮伤,提高玻璃的镀膜质量。

附图说明:

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型的局部剖视图。

具体实施方式:

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明,见图1~2所示,玻璃整面镀膜治具,包括有治具基板1,治具基板1上开设有至少一个贯穿治具基板1上下两端面的矩形玻璃放置槽2,玻璃放置槽2的侧壁表面涂覆有一层防刮伤层3,玻璃放置槽2的侧壁底部向内侧凸伸有支撑台阶4,玻璃放置槽2的侧壁顶部周缘设置斜面5形成倒角结构,斜面5的倾斜角度为30~40度,使得玻璃更容易放置在玻璃放置槽2中。玻璃放置槽2为多个,多个玻璃放置槽2沿直线方式均匀分布,能够一次放置多片玻璃,提高加工效率。

支撑台阶4环绕玻璃放置槽2的底部一周设置,形成环形台阶,对玻璃周缘起到更好的支撑作用。支撑台阶4凸伸出的宽度为0.4~0.6mm,这个尺寸规格使得支撑台阶4即能够支撑玻璃,又不会影响玻璃下端面的镀膜加工。

治具基板1的厚度为5~6mm,斜面5的高度与治具基板1的厚度的比例为1/4~1/3,支撑台阶4的高度与治具基板1的厚度的比例为1/4~1/3,具有较佳的力学性能,又能够方便玻璃放置槽2放置玻璃。

防刮伤层3为铁氟龙材质,能够耐高温,并且防刮伤效果好。防刮伤层3的厚度为0.05mm,具有足够的防刮伤效果,又不会影响玻璃放置在玻璃放置槽2中。

使用时,将玻璃放置在玻璃放置槽2中,玻璃放置槽2的斜面5起到导向作用,使得玻璃在取放料时不会与治具基板1碰撞,防止卡料,取放料操作方便快捷,加工效率高,同时支撑台阶4能够支撑玻璃使玻璃平稳放置在玻璃放置槽2中,玻璃上下两个面都能够露出来,能够同时对玻璃上下两面进行镀膜处理,镀膜方便,效率高,并且防刮伤层3能够防止玻璃刮伤,提高玻璃的镀膜质量。

当然,以上所述仅是本实用新型的较佳实施例,故凡依本实用新型专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰,均包括于本实用新型专利申请范围内。

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