[实用新型]一种可调式装片装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及装片装置技术领域，具体说，是涉及一种真空镀膜生产线的可调式装片装置。 

背景技术

镀膜生产线中磁控溅射是为了再低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。通过在粑阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以提高溅射率的方法，而在镀膜中就需要特殊的装片装置固定基片。 

基片的大小不定，通常需要依据基片的大小建立基片架。目前市场上使用的装片装置为一种基片架，基片预设安装在基片架上，如专利号为201320051676.4的一种可调基片架，包括第一外横杆、第二外横杆、第一竖杆、第二竖杆、第一调节横杆、第二调节横杆、弹性压条和弹性压片；所述第一外横杆、第一竖杆、第二外横杆和第二竖杆两两联组成一个长方形的框架，框架四个角用螺钉连接，第一、二竖杆上设有凹槽和通孔，第一、二调节横杆通过通孔安装在竖杆上。但是该可调节基片架中，孔的位置固定，只能将第一、二调节横杆依据孔的位置调节。然而，基片的大小是不固定的，并且每个基片的大小会有偏差，有可能第一、二调节横杆依据孔的位置调节位置时，不满足基片的大小。并且该弹性元件的位置固定，不能移动，也不能依据需要固定基片的数量，设置弹性元件。 

为了解决上述固定，市场上又出现了一种基片架，该基片架在调节横杆后再增加了一辅助杆，辅助杆辅助基片在基片架上固定，但这种基片架使基片架架体的横截面积增大，这样导致真空镀膜室的基片架进出口都必须加宽，这样造成真空镀膜室加工工艺复杂。 

发明内容

针对现有技术存在的上述问题，本发明的目的是提供一种可调式装片装置，将基片稳固安装，以方便镀膜生产，其横截面积小，结构简单，适合安装各种不同规格的基片。 

为实现上述发明目的，本实用新型采用的技术方案如下： 

一种可调式装片装置，包括：一固定组件和一调节组件，调节组件安装在固定组件上， 通过调节调节组件的位置安装不同规格的基片； 

固定组件包括第一支撑杆、第二支撑杆、第一挡板和第二挡板，第一支撑杆、第一挡板、第二支撑杆和第二挡板两两连接形成一方形框架，第一支撑杆和第二支撑杆上分别设有至少两个导槽区域；调节组件安装在固定组件上，调节组件包括至少两个调节梁和至少一组定位件，定位件可拆卸的安装在调节梁上，调节梁安装在第一支撑杆和第二支撑杆的导槽区域上； 

导槽区域进一步包括一导槽和一安置区，导槽设置在安置区内，导槽呈竖直方向； 

固定组件的第一支撑杆和第二支撑杆上进一步分别设有中心安置区域，中心导位区域设置在第一支撑杆和第二支撑杆中心； 

调节梁安装在第一支撑杆和第二支撑杆的导槽区域和/或中心安置区域，调节梁包括一第一端部、一第二端部和一横梁，横梁的两端连接第一端部和第二端部，第一端部和第二端部的厚度小于横梁的厚度，第一端部和第二端部的厚度一致； 

定位件包括一第一定位元件和一第二定位元件，第一定位元件拆卸安装在一调节梁上，第二定位元件可拆卸安装在另一调节梁上，第一定位元件的安装位置高于第二定位元件的位置。 

优选地，第一支撑杆、第一挡板、第二支撑杆和第二挡板两两连接形成一长方形框架，以增大安装面积。 

更优选地，安置区的长度不小于导槽的长度，安置区的宽度不小于导槽的宽度。 

优选地，导槽区域包括第一导槽区域和第二导槽区域，第一导槽区域的面积大于第二导槽区域。 

更优选地，第一导槽区域设置在第一支撑杆和第二支撑杆的两端部，第二导槽区域设置在第一支撑杆和第二支撑杆中间部位，第一导槽区域进一步包括一第一导槽和第一安置区，第一导槽呈竖直方向设置在所述第一安置区内，第一安置区的长度不小于所述第一导槽的长度，第一安置区的宽度不小于第一导槽的宽度；第二导槽区域进一步包括一第二导槽和一第二安置区，第二导槽呈竖直方向设置在第二安置区内，第二安置区的长度不小于第二导槽的长度，第二安置区的宽度不小于第二导槽的宽度，第一安置区的面积大于第二安置区，第一导槽的长度长于第二导槽。 

优选地，中心导位区域进一步包括一中心安置孔和一中心安置区，中心安置孔设置在中心安置区的中心，中心安置区自第一支撑杆和第二支撑杆上去除材料形成，中心安置区的深度与安置区一致。 

优选地，调节梁安装在第一支撑杆和第二支撑杆的导槽区域和/或中心安置区域，调节梁包括一第一端部、一第二端部和一横梁，横梁的两端连接第一端部和第二端部，第一端部和第二端部的厚度小于横梁的厚度，第一端部和第二端部的厚度一致。