[实用新型]一种电解熔融池冷却装置有效
申请号: | 201320824358.7 | 申请日: | 2013-12-12 |
公开(公告)号: | CN203639579U | 公开(公告)日: | 2014-06-11 |
发明(设计)人: | 魏岩招 | 申请(专利权)人: | 福建中茂精密铸造有限公司 |
主分类号: | C25C3/08 | 分类号: | C25C3/08 |
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地址: | 352000 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电解 熔融 冷却 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及冷却装置技术领域,具体涉及一种电解熔融池冷却装置。
背景技术
用于生产铝的电解池包括一电解槽,该电解槽具有一般由多个预焙炭块制成的阴极和阳极。氧化铝供给到冰晶石电解液中,氧化铝在该冰晶石电解液中溶解。在电解过程中,在阴极处生产铝,并在电解槽的底部上形成熔化的铝层,使得冰晶石电解液浮动在该滤层的顶部上。在阳极处产生氧,通过生产一氧化碳和二氧化碳气体导致阳极的消耗。冰晶石电解液的工作温度通常在930℃到大约970℃的范围中。
因此,来自电解液的热量通过侧壁衬里的流动是必要的。现有的冷却装置结构设置不合理,一般在侧壁衬里设置流体管,流体管内的流体流动慢,导致冷却效率低,从而影响生产效率。
发明内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种结构设计合理、流体管内流体流动快,冷却效率高的电解熔融池冷却装置。
为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:一种电解熔融池冷却装置,包括绝缘底座,所述绝缘底座上端面设置有电解池,所述绝缘底座上设置有流体管,所述流体管缠绕成空心圆柱结构,且流体管缠绕后留下的缝隙通过焊接密封,所述流体管与绝缘底座上端面密封固定后形成电解池,所述流体管上端设置有第一进水管,所述流体管下端设置有第一出水管,所述流体管中部相邻设置有第二进水管和第二出水管,所述流体管外套接有金属外壳,所述金属外壳上端设置有盖板。
通过采用上述技术方案,电解池直接有流体管与绝缘底座围成,并且流体管上设置有两根进水管和两根出水管,并且四根管位置设置合理,冷却水可以快速的循环流动,冷却效率高。
本实用新型进一步设置为:所述流体管为铜管。通过本设置,铜管熔点高,工作可靠,导热性好,冷却快。
本实用新型还进一步设置为:所述第一进水管、第一出水管、第二进水管和第二出水管安装在同一侧面,且所述第一进水管、第一出水管、第二进水管和第二出水管的管口对准的金属外壳上开设有连接通孔。通过本设置,各个进水管和出水管连接操作方便。
本实用新型还进一步设置为:所述金属外壳由两个半圆形壳拼接而成,并且两个半圆形壳通过螺栓连接固定,每个半圆形壳上至少设置有一个散热孔。通过本设置,金属外壳结构设置合理,装拆容易,使用方便。
本实用新型的优点是:与现有技术相比,本实用新型结构更加合理,电解池直接有流体管与绝缘底座围成,并且流体管上设置有两根进水管和两根出水管,并且四根管位置设置合理,冷却水可以快速的循环流动,冷却效率高。
下面结合说明书附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明。
附图说明
图1为本实用新型实施例的结构示意图。
具体实施方式
参见图1,本实用新型公开的一种电解熔融池冷却装置,包括绝缘底座1,所述绝缘底座1上端面设置有电解池2,所述绝缘底座1上设置有流体管3,所述流体管3缠绕成空心圆柱结构,且流体管3缠绕后留下的缝隙通过焊接密封,作为优选的,流体管3的缝隙本实施例采用铜材料焊接后密封,铜材料熔点高,可以耐高温,所述流体管3与绝缘底座1上端面密封固定后形成电解池2,作为优选的,本实施例流体管3下端嵌入绝缘底座内,所述流体管3上端设置有第一进水管4,所述流体管3下端设置有第一出水管5,所述流体管3中部相邻设置有第二进水管6和第二出水管7,即流体管3缠绕成空心圆柱结构后,第一进水管4位于空心圆柱上端,第一出水管5位于空心圆柱下端,第二进水管6和第二出水管7设置中心圆柱中部,所述流体管3外套接有金属外壳8,所述金属外壳8上端设置有盖板9。
为使本实用新型冷却效果更好,结构更加合理,作为优选的,本实施例所述流体管3为铜管。所述第一进水管4、第一出水管5、第二进水管6和第二出水管7安装在同一侧面,且所述第一进水管4、第一出水管5、第二进水管6和第二出水管7的管口对准的金属外壳8上开设有连接通孔10。
所述金属外壳8由两个半圆形壳拼接而成,并且两个半圆形壳通过螺栓11连接固定,每个半圆形壳上至少设置有一个散热孔12。
本实施例所述的金属外壳8和盖板9均由钢材料制成而成,所述的绝缘底座1为本领域技术人员所熟知的,本实施例就不再加以叙述。
上述实施例对本实用新型的具体描述,只用于对本实用新型进行进一步说明,不能理解为对本实用新型保护范围的限定,本领域的技术工程师根据上述实用新型的内容对本实用新型作出一些非本质的改进和调整均落入本实用新型的保护范围之内。
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