[实用新型]适用于石英玻璃管、石英玻璃棒的卧式真空立装脱羟炉有效

专利信息
申请号: 201320801100.5 申请日: 2013-12-09
公开(公告)号: CN203715486U 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 陈士斌;周明强;宁井班;刘明伟;徐同根 申请(专利权)人: 江苏太平洋石英股份有限公司
主分类号: C03B20/00 分类号: C03B20/00
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 毛广杰
地址: 222342 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 适用于 石英 玻璃管 玻璃棒 卧式 真空 立装脱羟炉
【说明书】:

技术领域

本实用新型专利涉及一种真空立装脱羟炉,具体涉及一种适用于石英玻璃管、石英玻璃棒的卧式真空立装脱羟炉。一种新型石英玻璃管、棒卧式真空立装脱羟炉,主要是一种在真空状态下采用新设计的炉型和装料方式,能够更好地解决传统方式对石英管棒质量的影响。

背景技术

目前生产石英玻璃管及石英玻璃棒的立式脱羟炉普遍存在温差大、温度不均匀以及装配进出炉操作难度太大等缺点,并且,针对现有的立式脱羟炉只能采用的传统装料方式,然而传统装料方式普遍存在管棒及工装的自重产生的重力、应力对产品质量产生影响等缺点。采用现有的立式脱羟炉生产时,不仅存在生产产量低的问题,最重要的还存在生产成本高,且生产出来的石英玻璃管、石英玻璃棒产品存在缺陷较多的问题,因此设计开发一种能够解决生产成本较高的问题,同时还能使生产产品质量较高的立式脱羟炉,已成为生产半导体石英玻璃管、石英玻璃棒领域的技术难点,亟待技术人员开发设计。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种适用于石英玻璃管、石英玻璃棒的卧式真空立装脱羟炉,可以最大程度的利用空间,提高空间利用率,同时节约材料成本,提高产量,并且可以解决管材、棒材相互碰撞、粘黏的问题,提高生产产品的质量。

本实用新型提供一种适用于石英玻璃管、石英玻璃棒的卧式真空立装脱羟炉,包括能够立式装料的装料装置,且所述卧式真空立装脱羟炉的炉壳形状为方形,炉壳内部具有方形的隔热屏。

所述装料装置包括底盘,所述底盘的四个角落竖直设置有四个立柱,相邻的两个立柱之间通过横梁连接,且相对的两个横梁之间设置有卡条。

所述横梁包括上横梁和下横梁,所有上横梁的设置高度均相等,所有下横梁的设置高度也均相等。

所述卡条也对应包括上卡条和下卡条,所述上卡条对应设置于相对的两个上横梁之间,所述下卡条对应设置于相对的两个下横梁之间。

所述上横梁和下横梁上设置有多个卡槽,所述上卡条和下卡条的两端容设于卡槽中,在横向和纵向方向上,所述装料装置通过多个上卡条和多个下卡条形成上下两层的多个方形孔。

所述上卡条和下卡条在设置时使上下两层形成的方形孔相对应一致,所述石英玻璃管或石英玻璃棒从上至下设置于对应的两层方形孔中。

本实用新型具有的优点在于:

本实用新型要解决的技术问题是提供一种适用于石英玻璃管、石英玻璃棒的卧式真空立装脱羟炉,可以最大程度的利用空间,提高空间利用率,同时节约材料成本,提高产量,并且可以解决管材、棒材相互碰撞、粘黏的问题,提高生产产品的质量。

附图说明

图1是现有技术中卧式脱羟炉的结构示意图;

图2是本实用新型提供的卧式真空立装脱羟炉的结构示意图;

图3是本实用新型提供的卧式真空立装脱羟炉的装料装置的结构示意图;

图4是本实用新型提供的卧式真空立装脱羟炉的装料装置中卡条的结构示意图。

图中:1-炉壳;2-底盘;3-隔热屏;4-卡条;5-横梁;6-立柱。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明,以使本领域的技术人员可以更好的理解本实用新型并能予以实施,但所举实施例不作为对本实用新型的限定。

本实用新型提供一种适用于石英玻璃管、石英玻璃棒的卧式真空立装脱羟炉,所述卧式真空立装脱羟炉融合了现有技术中卧式脱羟炉和立式脱羟炉的优点,将立式装管结构完美地在卧式脱羟炉中实现,克服了卧式脱羟炉不能立式装管的缺陷。本实用新型将卧式脱羟炉的真空室按照工件的要求重新进行设计,如图1和图2的对比所示,将现有卧式脱羟炉的炉壳1形状由圆形设计为方形。由于装料装置一般为方形结构,因此,当方形的装料装置置于方形的炉壳1内部时,可以最大程度的利用空间,减少卧式圆形脱羟室中无法利用到的无效空间,使空间利用率提高至极致,不仅节约材料成本,并且由于无效空间的减小,在生产过程中的抽气、加热、冷却等环节的运行成本也在大幅度下降。同时由于炉壳设计为方形,而对应的处于炉壳1内部、装料装置外部的隔热屏3对应也设计为方形。

对应图1的现有卧式脱羟炉来讲,其空间大且利用率低,而对应本实用新型提供的卧式真空立装脱羟炉来讲,其空间利用率高。对于相同直径的炉壳1,底盘2处于炉壳1内,本实用新型提供的卧式真空立装脱羟炉较传统型的真空脱羟炉的空间利用率可提高1倍,几乎没有无效空间。

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