[实用新型]滤油机上使用的真空分离罐有效
| 申请号: | 201320771541.5 | 申请日: | 2013-11-30 |
| 公开(公告)号: | CN203886286U | 公开(公告)日: | 2014-10-22 |
| 发明(设计)人: | 张庭华 | 申请(专利权)人: | 重庆骏然机电有限公司 |
| 主分类号: | B01D35/00 | 分类号: | B01D35/00;B01D35/01 |
| 代理公司: | 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 | 代理人: | 穆祥维 |
| 地址: | 400041 重庆市*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 油机 使用 真空 分离 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种滤油机,尤其涉及一种滤油机上使用的真空分离罐。
背景技术
由于现有的火力、水力、核力、燃气、余热发电、化工、造纸、冶金等设备系统时有发生渗漏、密封不严、油液长期处于热负荷、开放式储油等现象,空气中的水分、气体渗入油液中,导致油中含水、气体。
因此,常采用滤油机来实现在线过滤净化,使运行中的油品尚未劣化就得到及时净化处理,能快速、高效的脱出油中的水分、气体和杂质。使运行的油品各项指标满足国家标准,保证机组的调节系统、润滑系统正常工作。
真空分离器是滤油机的一个重要的组成部分,而反应架又是真空分离器的一个核心部件。现有技术中,反应架主要是一水平设置在真空罐内横截面上的支撑板,支撑板上开有多个竖直设置的通孔。高温油液进入真空分离器的雾化器内,通过雾化器油液先形成雾状,再形成膜状,油雾在下落的过程中附注在支撑板,油中所含的水分在高热、高真空度下,快速汽化并由真空系统排出;这种结构的反应架,油雾附注面积小,汽化效果差,脱水、脱气效率不高;且真空罐内的油液和泡沫不能精确控制。
实用新型内容
针对现有技术中存在的上述不足,本实用新型提供了一种可精确控制油液和泡沫,快速汽化,脱水、脱气效率更高的滤油机上使用的真空分离罐。
为了解决上述技术问题,本实用新型采用了如下技术方案:
滤油机上使用的真空分离罐,包括真空罐、以及设置在真空罐内的雾化器和反应架,反应架位于雾化器的下方,所述真空罐的底部设置放油阀,在真空罐上且靠近反应架的下方设置回流阀;还包括泡沫传感器、用于检测上油位的红外线探头Ⅰ和用于检测下油位的红外线探头Ⅱ;所述反应架包括水平设置在真空罐内横截面上的支撑板和设置在支撑板上的三层反应环;下一层上的反应环与上一层上的反应环相互错位设置;所述泡沫传感器设置在真空罐上且位于雾化器和反应架之间,所述红外线探头Ⅰ和红外线探头Ⅱ均设置在真空罐上且位于反应架的下方,所述红外线探头Ⅰ的位置比红外线探头Ⅱ的位置高350~450mm;
所述支撑板上均布数个竖直设置通孔,通孔的孔径为1.6~1.8mm,支撑板上相邻通孔之间的距离为4~4.5mm;
所述反应环由一铁片围成的圆环和铁片的一端向内弯折形成的折臂组成,所述圆环的外径为26~28mm;
所述反应环竖直设置,下一层上的反应环的内孔与上一层上相邻的反应环的内孔连通。
作为本实用新型的一种优选方案,所述圆环和折臂的厚度为1~1.2mm。
本实用新型的有益效果是:在真空罐上设置有泡沫传感器和红外线探头,可对真空罐内的泡沫和油液进行检测,进而可以精确控制;在支撑板上设置三层反应环,下一层上的反应环与上一层上的反应环相互错位设置,高温油液进入雾化器内,通过雾化器后油液先形成雾状,再形成膜状,油雾在下落的过程中附注在反应环和支撑板上,使其在真空中的接触面积扩大为原来的近百倍;油中所含的水分在高热、高真空度、大表面、高抽速的条件下得到快速汽化并由真空系统排出,汽化效果大大提高,脱水、脱气效率为原来的十倍左右。
附图说明
图1为滤油机上使用的真空分离罐的结构示意图;
图2为反应架的结构示意图。
附图中:1—真空罐; 2—雾化器; 3—放油阀; 4—回流阀; 5—泡沫传感器; 6—红外线探头Ⅰ; 7—红外线探头Ⅱ; 8—支撑板; 9—反应环; 91—圆环; 92—折臂; 10—通孔。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细地描述。
如图1所示,滤油机上使用的真空分离罐,包括真空罐1、雾化器2、反应架、泡沫传感器5、用于检测上油位的红外线探头Ⅰ6和用于检测下油位的红外线探头Ⅱ7。雾化器2和反应架均设置在真空罐1内,反应架位于雾化器2的下方,真空罐1的底部设置放油阀3,在真空罐1上且靠近反应架的下方设置回流阀4。泡沫传感器5设置在真空罐1上且位于雾化器2和反应架之间,红外线探头Ⅰ6和红外线探头Ⅱ7均设置在真空罐1上且位于反应架的下方,红外线探头Ⅰ6的位置比红外线探头Ⅱ7的位置高350~450mm。
反应架包括水平设置在真空罐1内横截面上的支撑板8和设置在支撑板8上的三层反应环9。下一层上的反应环与上一层上的反应环相互错位设置。
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