[实用新型]下降料道结构

权利要求书

1.一种下降料道结构(10；20；30；40；50；60)，所述下降料道结构用于胶合颗粒(1)的装置，所述颗粒至少部分地由适于生产材料板的纤维和/或碎屑构成，其中，所述下降料道结构(10；20；30；40；50；60)具有下降料道(21；31；41；51；61)，所述下降料道具有用于馈送颗粒(1)的入口和用于输出颗粒(1)的出口，并具有用于清洁所述下降料道(21；31；41；51；61)的至少一个内壁(21a…21d)的至少一个第一清洁装置，其特征在于，所述下降料道结构(10；20；30；40；50；60)还具有用于清洁所述至少一个第一清洁装置的至少一个第二清洁装置。 

2.如权利要求1所述的下降料道结构(20；30)，其特征在于，所述第一清洁装置构造成至少一个可移动的支承元件(23x；31x)，所述支承元件设置成能相对于所述下降料道(21；31)的所属的第一内壁(21x；31x)移动，其中至少一个第一擦拭元件(22x；32x)设置或构造在所述可移动的支承元件(23x；31x)处，以使得在所述可移动的支承元件(23x；31x)移动时擦拭所属的内壁(21x；31x)。 

3.如权利要求2所述的下降料道结构(20；30)，其特征在于，所述可移动的支承元件(23x；31x)设置成穿过构造在两个相邻的内壁(21x)之间或内壁(21x)的两个端部之间的间隙。 

4.如权利要求2到3中任一项所述的下降料道结构(20；30)，其特征在于，所述可移动的支承元件(23x；31x)构造成壁，所述壁的高度等于所属的内壁(21x；31x)的待擦拭高度。 

5.如权利要求2到3中任一项所述的下降料道结构(20)，其特征在于，所述可移动的支承元件(23x；31x)构造成是弹性的。 

6.如权利要求2所述的下降料道结构(20)，其特征在于，所述第二清洁装置具有至少一个第二擦拭元件(24x)。 

7.如权利要求6所述的下降料道结构(20)，其特征在于，所述第二擦拭元件(24x)设置在壁或支承元件(23x)处。 

8.如权利要求2到3中任一项所述的下降料道结构(30)，其特征在于， 所述可移动的支承元件构造成所述下降料道(31)的形成所述下降料道(31)的内壁(31x)的壁元件。 

9.如权利要求8所述的下降料道结构(30)，其特征在于，所述下降料道(31)具有多个壁元件，所述壁元件分别构造成拱形，其中每个壁元件与另一壁元件在其外侧部分交叠。 

10.如权利要求1所述的下降料道结构(40)，其特征在于，所述第一清洁装置具有至少一个第一刮刀(42)，所述第一刮刀分配给至少一个内壁(41a)，而所述第二清洁装置具有至少一个第二刮刀(44)以及用以使所述第二刮刀(44)从静止位置沿与所述第一刮刀(42)平行的轴线运动以擦拭所述第一刮刀(42)的驱动装置(43)。 

11.如权利要求6所述的下降料道结构(50)，其特征在于，所述第一清洁装置具有至少一个第一刮刀(52)以及用以使所述第一刮刀(52)从静止位置沿与至少一个内壁(51a)平行的轴线运动以擦拭所述内壁(51a)的驱动装置(53)；并且所述第二清洁装置具有至少一个第二刮刀(54)以及用以使所述第二刮刀(44)从静止位置运动经过定位在所述静止位置的第一刮刀(52)以擦拭所述第一刮刀(52)的驱动装置(55)。 

12.如权利要求6所述的下降料道结构(60)，其特征在于，所述第一清洁装置具有至少一个柔性的擦拭元件(62)，用以清洁至少一个内壁(61x)。 

13.如权利要求12所述的下降料道结构(60)，其特征在于，所述擦拭元件为环形擦拭元件(62)。