[实用新型]循环水电解过滤器有效
申请号: | 201320713490.0 | 申请日: | 2013-11-12 |
公开(公告)号: | CN203794725U | 公开(公告)日: | 2014-08-27 |
发明(设计)人: | 林小喜 | 申请(专利权)人: | 杭州桂冠环保科技有限公司 |
主分类号: | C02F9/06 | 分类号: | C02F9/06 |
代理公司: | 浙江永鼎律师事务所 33233 | 代理人: | 王梨华;陈丽霞 |
地址: | 310023 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 循环 水电 过滤器 | ||
技术领域
本实用新型涉及水处理设备,尤其涉及了一种循环水电解过滤器。
背景技术
目前,工业用水存在使用费用高,污水排放困难等缺点。而现有的水处理设备又无法满足将废水处理后,达到循环使用的目的。虽然有些水处理设备能够对水进行简单的处理,但是处理后的水仍然存在许多杂质,无法满足工业上重复使用。
发明内容
本实用新型针对现有技术中工业用水成本高,工业废水存在排放困难,无法进行循环再使用等缺点,提供了一种通过采用水电离装置与过滤装置对废水进行处理,处理后的水能够重新进行循环使用,从而降低了企业工业用水使用成本,解决了废水排放困难的循环水电解过滤器。
为了解决上述技术问题,本实用新型通过下述技术方案得以解决:
循环水电解过滤器,包括过滤器壳体,过滤器壳体上设有进水口与出水口,所述的过滤器壳体内设有水电离装置与过滤装置。通过设置水电离装置能够对废水进行电离,使得水垢结晶体逐渐变得松软、脱落、溶解,从而达到除垢之目的,通过过滤装置,减少水中的杂质,使过滤后的水能够循环利用,水电离装置设置在靠近进水口一端,过滤装置设置在靠近出水口一端,水电离装置设置在靠近出水口一端,过滤装置设置在靠近进水口一端,水电离装置包括一组以上的电离模组,过滤装置包括上板与下板,上板与下板之间设置填充物。
作为优选,所述的电离模组包括正接金属电离板与负接金属电离板。
作为优选,所述的正接金属电离板与负接金属电离板之间设置一块以上的铝板。铝板可以为一块、两块或者三块,通过设置铝板,能够增加正接金属电离板与负接金属电离板之间的电阻,防止电流过大而损坏正接金属电离板与负接金属电离板,同时,提高水电离效果。
作为优选,所述的下板上设置倒三角形的滤水口。
作为优选,所述的填充物为活性炭。
本实用新型由于采用了以上技术方案,具有显著的技术效果:本实用新型通过采用水电离装置与过滤装置对废水进行处理,处理后的水能够重新进行循环使用,从而降低了企业工业用水使用成本,解决了废水排放困难的问题。
附图说明
图1是本实用新型实施例1的结构示意图。
以上附图中各数字标号所指代的部位名称如下:其中1—过滤器壳体、2—水电离装置、3—过滤装置、31—上板、32—下板、33—填充物、34—滤水口、11—进水口、12—出水口、21—正接金属电离板、22—负接金属电离板、23—铝板。
具体实施方式
下面结合附图1与实施例对本实用新型作进一步详细描述:
实施例1
循环水电解过滤器,如图1所示,包括过滤器壳体1,过滤器壳体1上设有进水口11与出水口12,所述的过滤器壳体1内设有水电离装置2与过滤装置3。
水电离装置2设置在靠近进水口11一端,过滤装置3设置在靠近出水口12一端。当废水进入循环水电解过滤器时,先通过过滤装置3将废水进行电解处理,使得水垢得以控制和去除,溶解氧与水分子结合不易析出,从而抑制氧化 腐蚀和垢下原电池腐蚀的发生,起到良好的防腐阻锈的作用;然后将电离处理后的水进行过滤,去除水中产生的杂质,同时还具有防腐、除锈、脱色、杀菌的作用,提高了水处理的效果。由于废水在电离过程中会产生絮凝,因此,将废水先通过电离处理,在进行过滤,更加有利于废水的处理。
水电离装置2包括一组以上的电离模组。电离模组包括正接金属电离板21与负接金属电离板22。正接金属电离板21与负接金属电离板22之间设置一块以上的铝板23。通过在正接金属电离板21与负接金属电离板22之间设置铝板23,能够增大正接金属电离板21与负接金属电离板22之间的电阻,提高水电离效果。
过滤装置3包括上板31与下板32,上板31与下板32之间设置填充物33。下板32上设置倒三角形的滤水口34。填充物33为活性炭。通过采用活性炭或者与活性炭类型的填充物,对电离后的水进行过滤,滤水口34采用倒三角形,因此,一些杂质积累在过滤装置3的下板32上,不会通过滤水口34排出。
实施例2
本实施例与实施例1的区别在于:水电离装置2设置在靠近出水口12一端,过滤装置3设置在靠近进水口11一端。当废水进入循环水电解过滤器时,先通过过滤装置3将废水进行初步的过滤,然后再通过电离模组电离。
总之,以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,凡依本实用新型申请专利范围所作的均等变化与修饰,皆应属本实用新型专利的涵盖范围。
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