[实用新型]一种真空高温炉加热室有效

专利信息
申请号: 201320685710.3 申请日: 2013-11-01
公开(公告)号: CN203657434U 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 戴煜 申请(专利权)人: 湖南顶立科技有限公司
主分类号: F27B5/05 分类号: F27B5/05;F27B5/06
代理公司: 云南派特律师事务所 53110 代理人: 岳亚苏
地址: 410000 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 高温 加热
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及高温真空领域,具体涉及一种真空高温炉加热室。

背景技术

真空高温炉是一种先进的热处理设备,可以进行金属材料和工件的真空加热、淬火、回火、退火、渗碳、渗氮、加压气淬等各种热处理,真空热处理过程能使被处理材料和工件性能显著提高,材料得到充分利用。

众所周知,真空炉温度均匀性是一项很重要的指标,而其中提高温度均匀性的一项重要措施为增加补偿区间,由于物料支撑柱一般设置在加热室底部,且需要有较好的高温承载能力,因而一般为石墨、钼材、不锈钢等材质,而这些材质均具有较高的传热系数,因而容易导致底部热量散失和保温效果差,从而影响真空炉加热室的热稳定性。

实用新型内容

本实用新型的目的是克服以上缺点,提供了一种真空高温炉加热室。

本实用新型的技术方案是:

一种真空高温炉加热室,包括圆筒状的不锈钢炉壳,所述炉壳内设置有由上保温屏、侧保温屏、下保温屏围成的加热区,所述炉壳底部固定设置有多个结构相同的物料支撑平台,所述物料支撑平台上设置有杯状支撑座,所述杯状支撑座内设置有物料支撑柱,所述物料支撑柱贯穿所述下保温屏并置于所述加热区中,所述物料支撑柱呈中空状,且设置在加热区外部的物料支撑柱外侧面包覆有一层活动保温屏,所述杯状支撑座内设置有隔热部件。

进一步地,所述杯状支撑座内设置有陶瓷杯垫。

进一步地,所述上保温屏、下保温屏、侧保温屏上均设置有若干用于定位加热器的引出缺口。

进一步地,所述引出缺口中设置有绝缘瓷套。

进一步地,所述物料支撑柱上方设置有物料支撑横梁。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:

1、减少了加热室底部的热量散失,提高了室内温度的均匀性。本实用新型在现有技术的基础上,一方面将物料支撑柱设置成中空状,减少了其传热面积,另一方面在杯状支撑座内设置有隔热部件,中断了加热室的热量传送到水冷夹套炉壳进行散热,因而减少了热量散失,提高了加热室温度的均匀性,降低了物料支撑平台的温度,提高了其承载能力。

2、本实用新型结构设计简单合理,保温隔热效果佳,可广泛地应用在不同高温真空炉上。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实施例的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

具体实施方式:

结合图1所示的一种真空高温炉加热室,包括圆筒状的不锈钢炉壳1,炉壳1内设置有由上保温屏2、侧保温屏3、下保温屏4围成的加热区,其炉壳1底部固定设置有多个物料支撑平台5,其物料支撑平台5上设置有杯状支撑座6,其杯状支撑座6内固定设置有物料支撑柱7,物料支撑柱7贯穿下保温屏4并置于加热区中,其物料支撑柱7呈中空状,且设置在加热区外部的物料支撑柱7外侧面包覆有一层活动保温屏8,其杯状支撑座内部6设置有隔热部件。

本实施例中,物料支撑柱7贯穿加热区内外,其由石墨、钼材、不锈钢中任意一种材料制成,为了降低物料支撑柱7向外传递的热量,其物料支撑柱7采用中空状,因而减少了传热面积,另外,其设置在加热区外部的物料支撑柱7外侧面上包覆有一层活动保温屏8,在其固定物料支撑柱7的物料支撑平台5上的杯状支撑座内部6设置有隔热部件,因而中断了物料支撑柱7的热量向水冷夹套炉壳传递,减少了加热室底部的热量散失,提高了室内温度的均匀性,同时也降低了物料支撑平台5的温度,提高了其承载能力。

本实施例中,其支撑座内部6设置有陶瓷杯垫9。

本实施例中,上保温屏2、下保温屏4、侧保温屏3上均设置有若干用于定位加热器的引出缺口11,其引出缺口11中设置有绝缘瓷套。

本实施例中,物料支撑柱7上方设置有物料支撑横梁12,用于承载物料。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的保护范围内所作的任何修改、等同替换等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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