[实用新型]一种抛光刀具有效

专利信息
申请号: 201320672070.2 申请日: 2013-10-28
公开(公告)号: CN203973419U 公开(公告)日: 2014-12-03
发明(设计)人: 王先玉;夏永光 申请(专利权)人: 浙江星星瑞金科技股份有限公司
主分类号: B24D13/00 分类号: B24D13/00
代理公司: 台州市方圆专利事务所 33107 代理人: 蔡正保;朱新颖
地址: 318015 浙江省台*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 抛光 刀具
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于机械加工技术领域,涉及一种抛光刀具。

背景技术

随着科学技术的迅速发展,在诸如手机、掌上电脑、车载导航仪、笔记本电脑等电子产品上广泛地应用了触摸屏,大量触摸屏的外部需要覆盖一层玻璃壳体,由于不同产品的外形设计需要,这些玻璃壳体需要加工成凸出或者凹入的立体结构,我们普遍称之为3D类产品,3D类产品具有较好的外观,同时使用性能也得到提升,这些3D类产品与传统一样,其表面需要进行抛光处理。抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度,而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的,有时也用以消除光泽,通常以抛光轮作为抛光工具。传统的抛光轮一般用多层帆布、毛毡或皮革叠制而成,两侧用金属圆板夹紧,其轮缘涂敷由微粉磨料和油脂等均匀混合而成的抛光剂。抛光时,高速旋转的抛光轮压向工件,使磨料对工件表面产生滚压和微量切削,从而获得光亮的加工表面。随着科技产品的改进,对抛光的质量要求的明显提高,于是抛光刀具也衍生处了大量的功能。

如中国实用新型专利申请(200920294671.8)公开了一种离心式抛光轮,包括中空固定支架,与中空固定支架相配合连接的圆环形的主轮,其特征在于所述的主轮中制有扩张孔,所述的扩张孔包括开口孔或者闭口孔,在主轮的圆周外壁安装抛光砂带。该技术方案主轮中制有扩张孔,所述扩张孔包括开口孔或者闭口孔,所述主轮制扩张孔的目的是当抛光轮在旋转下产生离心力,主轮外缘直径增大,增加弹性,提高切削性能,所述开口孔在主轮的外侧制孔后不留边,所述的闭口孔即开孔后留封闭边缘一圈,以保证光洁度。但是该抛光轮适用于一般的工业产品,而3D类的玻璃壳体较薄,且形状不规则,上述抛光轮在与玻璃壳体接触或者抛光时容易使玻璃壳体碎裂。

发明内容

本实用新型的目的是针对现有的技术存在上述问题,提出了一种抛光刀具,该抛光刀具带有缓冲功能,能够避免对工件的硬性接触,避免工件碎裂。

本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现:一种抛光刀具,包括一圆柱状的刀杆,所述刀杆的一端端部具有一研磨层,其特征在于,所述研磨层与刀杆端部之间设有缓冲块,所述缓冲块的厚度为3mm~6mm。

刀杆在使用时一般呈竖直状态,其上端的横截面呈多边形,用于插接固定在抛光机上,另一端固定有缓冲块,研磨层固定在缓冲块的下表面,当与玻璃壳体等工件接触或抛光时,缓冲块能够有效的缓解刀杆对研磨层的力传递,避免直接硬性的接触工件,起到缓冲的作用,避免工件碎裂;缓冲块的厚度直接关系到缓冲的效果,但是缓冲块同样需要将刀杆的作用传递给研磨层,缓冲块太厚,力传递效果较差,研磨效果相应变差,缓冲块太薄,缓冲效果较差,工件碎裂概率变大。

在上述的抛光刀具中,所述缓冲块呈圆盘状,所述研磨层呈圆形,且研磨层与缓冲块的直径相同,所述研磨层、缓冲块及刀杆同轴心设置。即研磨层覆盖缓冲块的整个侧面,同时研磨层、缓冲块及刀杆同轴心设置,避免转动时受力不均,使整个抛光过程更加稳定。

在上述的抛光刀具中,所述缓冲块采用弹性聚氨酯材料制成。塑料性能的聚氨酯,其中聚氨酯弹性体具有很好的抗拉强度、抗撕裂强度、耐冲击性等优点,主要用作涂覆材料、鞋底以及实心轮胎等方面,是一种技术较为成熟的工业原料。

在上述的抛光刀具中,所述缓冲块采用橡胶材料制成。橡胶材料较为普遍,质软,具有较好的韧性,使用也较为普遍。

在上述的抛光刀具中,所述研磨层采用氧化铈材料制成。氧化铈主要用作玻璃工业添加剂,作板玻璃研磨材料,具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的优点,是一种抛光的主要材料。

在上述的抛光刀具中,所述研磨层的表面具有研磨颗粒,所述研磨颗粒的直径为0.3um~0.7um。研磨颗粒的大小直接决定了抛光的质量,研磨颗粒直径较大,抛光的较为粗糙,抛光质量较差,研磨颗粒直径较小,抛光速度较慢。

在上述的抛光刀具中,所述缓冲块采用熔接的方式固定在刀杆上。加工工艺简单,连接强度好。

与现有技术相比,本抛光刀具具有以下优点:

1、由于研磨层与刀杆端部之间设有缓冲块,缓冲块能够有效的缓解刀杆对研磨层的力传递,避免直接硬性的接触工件,起到缓冲的作用,避免工件碎裂。

2、由于研磨颗粒的直径被设置在0.3um~0.7um范围内,因此既保证了研磨质量,又保证了抛光速度,使得整个抛光过程效率更高。

附图说明

图1是本抛光刀具的立体结构示意图。

图2是本抛光刀具的结构侧视图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江星星瑞金科技股份有限公司;,未经浙江星星瑞金科技股份有限公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320672070.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top