[实用新型]导光构件有效

专利信息
申请号: 201320616609.2 申请日: 2013-10-08
公开(公告)号: CN203615253U 公开(公告)日: 2014-05-28
发明(设计)人: 坂本光秀;中嶋博;羽田野英介 申请(专利权)人: 株式会社S·K·G
主分类号: F21V8/00 分类号: F21V8/00;G02B6/00
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 构件
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种导光构件。 

背景技术

作为通过导光构件的一个或多个侧表面接收光线并且引导光通过一个或多个主表面的导光构件输出,作为一种用于朝向主表面扩散光的装置的在主表面内具有点状的凹部或槽状的凹部的构造已被经常提出(例如,参见专利文件1)。 

然而,具有点状的凹部或槽状的凹部的导光板具有这样的问题,即,虽然在每个凹部的周围的小区域内能够保证亮度,但是在每个凹部的附近相对宽的区域内不能保证光线的足够的亮度。 

先前技术文件 

专利文件 

专利文件1:JP-A1-2005/090855。 

实用新型内容

本实用新型的一个目的是提供一种导光构件,其中通过改进扩散效率能够围绕凹部在宽的区域内确保光线的亮度。 

为了实现上述目的,本实用新型提供了如下的导光构件。 

所述导光构件通过一个或多个侧表面接收光线并通过一个或多个主表面输出光线,所述导光构件包括凹部,所述凹部通过在至少一个所述主表面内加工以槽状或点状形状形成,其中熔融标记通过熔融材料的固化形成在凹部的至少一部分内。 

优选地,所述熔融标记形成所述凹部的底部表面。 

优选地,所述熔融标记为不均匀表面或粗糙表面。 

优选地,所述熔融标记具有不大于在所述导光构件的主表面上的所述凹部的开口的面积的1/5的面积。 

优选地,在形成所述凹部时,通过从所述导光构件熔融的熔融材料形成所述熔融标记。 

优选地,所述凹部具有有所述底部表面的基本上三角锥台的形状、基本上圆形锥台的形状或者基本上矩形锥台的形状,所述底部表面由通过在基本上三棱锥形、基本上圆锥形或基本上四棱锥形的底部处的回流而制成的所述熔融标记形成。 

优选地,所述凹部由通过将相对于所述凹部的形状具有反转的形状的用于超声波加工或热加工的模具按压在所述主表面上熔融所述主表面而形成;以及所述底部表面通过使从所述主表面的熔融的一些熔融材料回流入所述凹部的最深部分中得以形成。 

优选地,形成突出部分以在所述凹部的边缘的附近从所述主表面凸起。 

优选地,所述凹部由通过将相对于所述凹部的形状具有反转的形状的用于超声波加工或热加工的模具按压在所述主表面上熔融所述主表面而形成;所述底部表面通过使从所述主表面的熔融的一些熔融材料回流入所述凹部的最深部分中得以形成;以及所述突出部分通过将一些熔融材料挤出至所述凹部的边缘上而形成。 

优选地,所述突出部分通过使用模具而形成。 

优选地,所述突出部分具有多个内部裂纹。 

优选地,所述突出部分具有内部气泡。 

优选地,所述模具具有形成在相对于所述凹部的形状反转的凸出部分的表面上的不均匀形状;以及所述凹部具有有从在所述模具的凸出部分的表面上的不均匀形状转移的所述不均匀形状的侧表面。 

优选地,所述模具具有在相对于所述凹部的形状反转的凸出部分的表面上的阶梯状不均匀形状;以及所述凹部具有有从在所述模具的凸出部分的表面上的阶梯状不均匀形状转移的不均匀形状的侧表面。 

优选地,所述模具具有在相对于所述凹部的形状反转的凸出部分的表面上的阶梯状同心矩形不均匀形状;以及所述凹部具有有从在所述模具的凸出部分的表面上的阶梯状同心矩形不均匀形状转移的不均匀形状的侧表面。 

根据本实用新型的导光构件为通过一个或多个侧表面接收光线并 通过一个或多个主表面输出光线的导光构件。通过在至少一个所述主表面内加工的标记形成槽状或点状形状的凹部,其中熔融标记通过熔融材料的固化而形成在凹部的至少一部分内。 

根据本实用新型的导光构件具有通过在形成为用于朝向所述主表面扩散输入光线的装置的凹部的部分内的熔融材料形成的熔融标记。熔融标记具有与凹部的底部表面或侧表面不同的表面状态,从而通过熔融标记扩散的光线显示与在熔融标记形成之前的凹部的底部表面或侧表面不同的扩散状态。此外,形成具有在熔融标记形成之前的凹部的底部表面或侧表面的边界表面,从而能够通过边界部分进一步不同地折射或扩散光线。因此,通过凹部的侧表面或底部表面的扩散和通过熔融标记的扩散得以结合,从而在围绕凹部的相对宽的区域内确保光线的高亮度。 

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社S·K·G,未经株式会社S·K·G许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320616609.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top