[实用新型]高分子彩釉瓦有效
| 申请号： | 201320579119.X | 申请日： | 2013-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN203514649U | 公开（公告）日： | 2014-04-02 |
| 发明（设计）人： | 王进林 | 申请（专利权）人： | 王进林 |
| 主分类号： | E04D1/10 | 分类号： | E04D1/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 637700 四川省南充*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 高分子 彩釉 | ||
【权利要求书】：
1.一种高分子彩釉瓦，分为主瓦和檐瓦，包括下齿接头、上齿接头、沟瓦、阳瓦、固定孔，其特征在于：沟瓦为下凹形状，阳瓦为上凸形状，所述的固定孔设置在彩釉瓦的外缘上，该外缘还设置有防止雨水通过固定孔回流的凸肋，所述的下齿接头与沟瓦连接，所述的上齿接头与阳瓦连接。
2.根据权利要求1所述的高分子彩釉瓦，其特征在于：所述沟瓦上均匀分布有若干凹槽，使得沟瓦整体呈梯度结构。
3. 根据权利要求1所述的高分子彩釉瓦，其特征在于：所述的阳瓦的截面呈半圆形，阳瓦的顶面上均匀分布若干凹槽，该凹槽与沟瓦上的凹槽在同一水平线上。
4. 根据权利要求1所述的高分子彩釉瓦，其特征在于：所述的檐瓦的沟瓦与阳瓦的另一外缘是封闭的，阳瓦的封闭处具有斜度，截面为圆形；沟瓦的封闭处同样具有斜度，截面为三角形。
5. 根据权利要求1所述的高分子彩釉瓦，其特征在于：所述的彩釉瓦是高温高压一次模压为整体结构。
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