[实用新型]一种镭雕装置

权利要求书

1.一种镭雕装置，其特征在于，包括：

一底座；

所述底座的上端面具有一镭雕腔室，所述镭雕腔室为中空结构，并且所述镭雕腔室的一端开口，所述开口与所述中空结构相贯通；

一位于所述底座上的滑台，所述滑台上安装待镭雕的工件，所述滑台可滑动地通过所述开口置于所述镭雕腔室的中空结构中；

所述镭雕腔室的上端面设有一镭雕仪，所述镭雕仪具有一激光装置，所述激光装置贯穿所述镭雕腔室的上端面，并且正对所述滑台；

一中央控制器，所述中央控制器与所述镭雕仪电连接。

2.根据权利要求1所述镭雕装置，其特征在于，所述镭雕腔室的侧端面还设有一用于排废气的排气管。

3.根据权利要求2所述镭雕装置，其特征在于，所述排气管内具有用于控制排废气量大小的阀门。

4.根据权利要求3所述镭雕装置，其特征在于，所述排气管还具有一用于控制阀门开或关的调节器。

5.根据权利要求1所述镭雕装置，其特征在于，所述镭雕腔室的所述开口的一侧枢设一腔室门，所述腔室门与所述开口匹配。

6.根据权利要求1所述镭雕装置，其特征在于，所述底座设有滑轨，所述滑轨的一部分延伸至所述镭雕腔室的中空结构内，所述滑台与所述滑轨滑动连接。

7.根据权利要求1所述镭雕装置，其特征在于，所述滑台设置有用于固定待镭雕工件的定位夹具。