[实用新型]一种新型陶瓷砖图案成型设备有效
| 申请号: | 201320474991.8 | 申请日: | 2013-08-05 |
| 公开(公告)号: | CN203460599U | 公开(公告)日: | 2014-03-05 |
| 发明(设计)人: | 汤滨 | 申请(专利权)人: | 广州锦盈新型材料有限公司 |
| 主分类号: | B44B5/02 | 分类号: | B44B5/02 |
| 代理公司: | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人: | 梁永宏 |
| 地址: | 510830 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 新型 陶瓷砖 图案 成型 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种图案成型设备,特别涉及一种新型陶瓷砖图案成型设备。
背景技术
在进行陶瓷砖图案成型时,模具的表面预先设置有需要成型的图样并利用冲压的方式印制于在砖坯表面。然而,现有模具在更换时通常需要采用额外的工具或手动进行。如此,将增加人工劳动强度也导致生产了效率较低。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型的目的旨在于提供一种自动更换模具的陶瓷砖图案成型设备。
为实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:
一种新型陶瓷砖图案成型设备,其包括上冲压基座、安装柱、上模具、下模具、下模具基座、控制器、沿垂直方向相对设置的第一轨道与第三轨道、及沿水平方向设置的第二轨道。该上模具包括第一上模具及与第一上模具不同的第二上模具。该安装柱上设置有第一电磁铁,该第一上模具及第二上模具与安装柱相对的一端均设置有与第一电磁铁配合的第二电磁铁。该安装柱在第一电磁铁通电时与第一上模具相吸,并可在控制器控制下沿第一轨道及第二轨道移动以对下模具进行冲压成型。该安装柱还可在控制器控制下沿第三轨道移动,并在第一电磁铁断电时与第一模具分离以便吸附区别于第一上模具的第二上模具。
上模具表面设置有至少有两种的凹凸条纹,每组凹凸条纹以不同角度进行排列。
本实用新型中设置有垂直与水平两个方向上的第一、第二以及第三轨道,使安装柱与第一模具吸附时可沿第一轨道对下模具进行冲压,还可在需要更换时沿第二及第三轨道移动并在控制器的控制下断电与第一模具分离后再通电吸附第二模具。
附图说明
图1为本实用新型陶瓷砖图案成型设备的较佳实施方式的示意图。
主要元件符号说明
100、图案成型设备;
10、上冲压基座;
20、安装柱;21、第一电磁铁;
30、上模具;31、第二电磁铁;33、第一上模具;35、第二上模具;
40、下模具;50、下模具基座;60、控制器;70、第一轨道;80、第二轨道;90、第三轨道;
具体实施方式
下面将结合附图以及具体实施方式,对本实用新型做进一步描述:
请参见图1,本实用新型涉及一种新型陶瓷砖图案成型设备100。该较佳实施方式的图案成型设备100包括上冲压基座10、安装柱20、上模具30、下模具40、下模具基座50、控制器60、沿垂直方向相对设置的第一轨道70与第三轨道90、及沿水平方向设置的第二轨道80。
上冲压基座10滑动设置于第一轨道70、第二轨道80以及第三轨道90上。安装柱20设置于上冲压基座10上,且其背向上冲压基座10的一面设置有第一电磁铁21。上模具30与安装柱20相对的一面设置有第二电磁铁31,且上模具30通过第一电磁铁21与第二电磁铁31之间的配合可分离地设置于安装柱20上。在本实施例中,上模具30包括第一上模具33及与第一上模具33不同的第二上模具35。下模具40设置于下模具基座50上并与上模具30相对。其中,上模具30与下模具40相对的一面设置至少有两种的凹凸条纹,每组凹凸条纹以不同角度进行排列。
在操作时,设置于安装柱20上的第一电磁铁21在控制器60的控制下通电并吸附放置于承载台(图未示)上的第一上模具33。 吸附有第一上模具33的安装柱20在控制器60随着上冲压基座10一同依次沿第三轨道90、第二轨道80以及第一轨道70滑动至与下模具40相对应位置并对下模具40进行冲压成型。如此,通过第一上模具33表面的立体细条纹凹凸图案在砖坯表面压制成型为具备渐变光影效果的表面结构图案。当需要更换第一上模具33时,第一上模具33随着上冲压基座10一同依次沿第一轨道70、第二轨道80以及第三轨道90返回并在控制器60的控制下断电与安装柱20分离后。随后,第一电磁铁21继续在控制器60的控制下通电并吸附第二上模具35,以完成第一上模具33的更换。
在本实施例中,陶瓷砖图案成型设备100通过在安装柱20与上模具30之间设置电磁铁的同时,设置有与上冲压基座10配合的垂直与水平两个方向上的第一轨道70、第二轨道80以及第三轨道90,从而使上模具30可在控制器60的控制下自动更换模具,而无需人工手动进行。
对于本领域的技术人员来说,可根据以上描述的技术方案以及构思,做出其它各种相应的改变以及变形,而所有的这些改变以及变形都应该属于本实用新型权利要求的保护范围之内。
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