[实用新型]一种四甲基氢氧化铵提浓装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种四甲基氢氧化铵提浓装置。

背景技术

电子级四甲基氢氧化铵（Tetramethyl Ammonium Hydroxide,TMAH）用于显示面板（FDP）和半导体芯片生产过程中的显影液，是用量最大的电子化学品之一。一般使用后的显影液废水中除了TMAH之外，还有光刻胶以及各种低浓度的金属离子杂质。由于TMAH是一种腐蚀性化学品，因此经过废水处理方能排放。目前显示面板和半导体芯片生产厂家一般采用中和，稀释以达到排放标准。如此废液处理成本高，另一方面TMAH是一类含氮物质，容易造成富营养化污染等环境负担，而且TMAH废液进行处理后排放无法实现循环利用，从而使制造者的制造成本无法降低。

台湾第98114596号专利提供了一种TMAH回收装置能够有效移除光刻胶，但无法除去其中的其他杂质；CN101993380中通过纳滤装置和树脂相结合进行TMAH回收，但该装置需要耐碱性的纳滤膜，而且需要更换频繁成本高。但是由于回收的TMAH浓度小于实际使用浓度，因此需要将TMAH进行浓缩。专利CN202983247采用蒸发的方式进行提浓，但需要消耗大量热能，而且TMAH在加热过程中会有部分分解。

发明内容

为了克服已有四甲基氢氧化铵提浓装置的能耗大、成本高、利用率较低的不足，本实用新型提供了一种减少能耗、降低成本、提升利用率的四甲基氢氧化铵提浓装置。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种四甲基氢氧化铵提浓装置，包括废液槽、过滤装置和反渗透槽，所述废液槽设有用以废液流入的第一进口和用于添加吸附剂的第二进口，所述废液槽的出口与所述过滤装置的进口连通，所述过滤装置还设有用以添加吸附剂的加料口，所述过滤装置的出口与第一连接管道一端连接，所述第一连接管道的另一端与所述反渗透槽连接，所述第一连接管道上安装加压泵和单向进料阀，所述反渗透槽的进料腔和出料腔之间安装反渗透膜，所述进料腔设有四甲基氢氧化铵提浓液出口，所述出料腔设有水出口。

进一步，所述废液槽的出口与所述过滤装置的进口通过第二连接管道连通，所述第二连接管道上安装水泵。

本实用新型的有益效果主要表现在：充分利用反渗透膜，保证了TMAH的提浓，又回收了其中的水资源。而且结构简单，可连续生产，能耗低，节约成本，减低水耗，易于推广实用。

附图说明

图1是四甲基氢氧化铵提浓装置的示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步描述。

参照图1，一种四甲基氢氧化铵提浓装置，包括废液槽1、过滤装置3和反渗透槽6，所述废液槽1设有用以废液流入的第一进口和用于添加吸附剂的第二进口，所述废液槽1的出口与所述过滤装置3的进口连通，所述过滤装置3还设有用以添加吸附剂的加料口，所述过滤装置3的出口与第一连接管道一端连接，所述第一连接管道的另一端与所述反渗透槽6连接，所述第一连接管道上安装加压泵4和单向进料阀5，所述反渗透槽6的进料腔和出料腔之间安装反渗透膜7，所述进料腔设有四甲基氢氧化铵提浓液出口，所述出料腔设有水出口。

进一步，所述废液槽1的出口与所述过滤装置3的进口通过第二连接管道连通，所述第二连接管道上安装水泵2。

本实施例中，废液槽1，用于存储废液，同时用于添加吸附剂；过滤装置3，用于过滤废液，在这过程中配置水泵2，用于吸滤；所得溶液经过高压泵4加压后进入反渗透膜7，高压泵与反渗透膜之间连接单向进料阀5，避免高压泵开启和停止时产生的高压对反渗透膜的损害。浓缩液进入收集槽，水收集使用。

本实施例的工作过程：废液槽1接收存储TMAH废液，其中加入定量吸附剂如活性炭等，吸附完全后通过过滤装置3实现固液分离，所得溶液经由高压泵4增压后进入含反渗透膜7的反渗透槽6进行提浓，为了避免高压泵开启和停止时产生的高压对反渗透膜的损害，高压泵与反渗透膜之间连接单向阀5。通过反渗透膜的水可做中水实验，提浓溶液进入储槽。