[实用新型]一种光罩人工擦拭装置有效
| 申请号： | 201320366113.4 | 申请日： | 2013-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN203385992U | 公开（公告）日： | 2014-01-08 |
| 发明（设计）人： | 丁和平 | 申请（专利权）人： | 彩虹（佛山）平板显示有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82;G03F1/84;B08B13/00 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 蔡和平 |
| 地址： | 528300 广东省佛*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 人工 擦拭 装置 | ||
1.一种光罩人工擦拭装置，其特征在于：包括支撑架（1），支撑架（1）上设置有与光罩尺寸相匹配的旋转平台（5），旋转平台（5）通过支撑旋转轴承（6）安装在支撑架（1）上；旋转平台（5）的两侧设置有用于照亮旋转平台（5）上的光罩的两个表面检查灯（2）。
2.根据权利要求1所述的光罩人工擦拭装置，其特征在于：所述的旋转平台（5）外侧的三个面上设置有三块相互垂直的防反光板（3）。
3.根据权利要求2所述的光罩人工擦拭装置，其特征在于：在相对的两个防反光板（3）的外侧设置有用于放置擦拭工具的擦拭工具箱（7）。
4.根据权利要求1或2所述的光罩人工擦拭装置，其特征在于：所述的旋转平台（5）为厚度为10mm的铝板。
5.根据权利要求2所述的光罩人工擦拭装置，其特征在于：所述的防反光板（3）为经过黑化处理的铝板。
6.根据权利要求1所述的光罩人工擦拭装置，其特征在于：所述的支撑架（1）上方还设置有一横梁，横梁上设置有用于悬挂离子风枪的离子风枪挂钩（4）。
7.根据权利要求1所述的光罩人工擦拭装置，其特征在于：所述表面检查灯（2）的灯头能够任意转动。
8.根据权利要求1或7所述的光罩人工擦拭装置，其特征在于：所述的表面检查灯（2）为FY-100R表面检查灯。
9.根据权利要求1所述的光罩人工擦拭装置，其特征在于：所述支撑架（1）的四个角设置有垫块。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
