[实用新型]多功能磁控溅射镀膜装置

权利要求书

1.多功能磁控溅射镀膜装置，其特征在于包括：

真空室（1）以及可拆装地连接在所述真空室（1）顶部的顶盖（2）；

固联在所述顶盖（2）上并悬置于所述真空室内的连接杆（3），可转动、可升降地套接在所述连接杆（3）下端的基片架（31），多个基片载体（11）设置在位于基片架（3）底部的圆盘（10）的底面上，所述多个基片载体处于同一圆周上，位于所述圆盘（10）的上方并与所述基片载体相对应的位置上，设置有加热装置（12）；

在所述真空室内腔底部与所述基片载体（11）相对应的位置上，设置有处于同一圆周上的多个磁控溅射靶（5），各所述磁控溅射靶的上部的靶头（13）和真空室主轴的夹角在0—45°可调，在所述磁控溅射靶上位于所述靶头的下方设置有可翻转的溅射挡板（18）。

2.根据权利要求1所述的多功能磁控溅射镀膜装置，其特征在于，在所述真空室的侧部设有扩展接口（4）；设置可通过所述扩展接口（4）伸入所述真空室内腔的机械手，所述机械手包括：水平导轨（23）、可沿所述水平导轨（23）滑动的滑块（24）、竖向固设于所述滑块上的垂直推板（22）、水平固联在所述垂直推板上端的运动轴（19），在所述运动轴的前端外部套接有第二波纹管（20），所述运动轴的末端固联有磁流体（21）。

3.根据权利要求1所述的多功能磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述顶盖（2）与所述真空室（1）的顶部之间设置有密封圈，并且顶盖与真空室之间采用卡钳连接固定。

4.根据权利要求1所述的多功能磁控溅射镀膜装置，其特征在于，在所述圆盘（10）的底面中心还设置有一个基片载体（11）。

5.根据权利要求1所述的多功能磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述真空室（1）为前开门形式，所述前开门（6）与真空室本体之间采用铰链连接并通过卡钳锁紧，在所述前开门的中心设有观察窗。

6.根据权利要求1所述的多功能磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述连接杆（3）的顶端位于所述顶盖（2）的顶面固设有大磁流体（7）。