[实用新型]一种旋转装置底座有效
申请号: | 201320338522.3 | 申请日: | 2013-06-14 |
公开(公告)号: | CN203374674U | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 黄志刚 | 申请(专利权)人: | 苏州柏德纳科技有限公司 |
主分类号: | F16C35/08 | 分类号: | F16C35/08 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 215011 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 旋转 装置 底座 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种旋转装置底座。
背景技术
旋转装置的旋转结构可设置在旋转轴的底部,顶部或者中间位置,通过旋转机构的旋转带动旋转轴的旋转,旋转结构的位置不同,对应的旋转装置底座也不尽相同。比如,当旋转结构位于旋转轴的顶部或者中间位置时,底座应设置相应的放置旋转轴底部并供底部旋转的容腔;当旋转结构位于旋转轴的底部时,底座应设置相应的供旋转结构旋转的旋转装置;不同的旋转轴有的需要穿过底座有的则不需要;旋转轴在旋转的过程中与底座的摩擦很大,损耗严重……鉴于此,本实用新型针对现有旋转装置底座进行改进,以适应不同位置的旋转结构的需求,减少旋转过程中的摩擦和损耗,增加装置的使用寿命。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种旋转装置底座以适应不同位置的旋转结构的需求,减少旋转过程中的摩擦和损耗,增加装置的使用寿命。
为实现上述技术目的,达到上述技术效果,本实用新型通过以下技术方案实现:
一种旋转装置底座,包括底座本体,在底座本体上固定有固定块,其特征在于,所述固定块自上而下设置有开口通孔,开口位于固定块的表面,开口通孔为四分之三圆柱体容腔。
当旋转结构位于旋转轴的顶部或者中间位置时,旋转轴的底部可以插入开口通孔里,旋转的时候,旋转轴可以被限制在四分之三圆柱体容腔里,由于通孔有开口,减少了与旋转轴的接触面积,进而减少了摩擦降低了损耗,另外,开口通孔有一定的高度,平衡了旋转轴的受力,避免某一部位集中受力。
进一步的,为了满足旋转结构位于旋转轴底部需要,旋转装置底座还包括若干个支撑台,支撑台通过螺钉与底座本体固定,支撑台上设置有通孔一和旋转结构,旋转结构与旋转轴底部相连且可实现旋转运动。旋转轴也可以穿过通孔一。当一个支撑台的旋转结构报废掉的时候,可以换其他的支撑台的旋转结构使用而不需要整个装置都报废掉。
进一步的,底座本体上设置有通孔二。旋转轴可以穿过通孔二与其他部件连接。
进一步的,底座本体上设置有盲孔。当旋转的速度较小时,可以将旋转轴的底部插入盲孔中,不需要增加额外结构即可将旋转轴限制在盲孔中防止位置偏移。
本实用新型的有益效果是:旋转装置底座可以适应不同位置的旋转结构的需求,减少旋转过程中的摩擦和损耗,增加装置的使用寿命。
附图说明
图1是本实用新型一种旋转装置底座的结构图;
附图的标记含义如下:
1:底座本体;2:固定块;3:开口通孔;4:支撑台;5:旋转结构;6:通孔一;7:螺钉;8:通孔二;9:盲孔。
具体实施方式
下面结合附图和具体的实施例对本实用新型技术方案作进一步的详细描述,以使本领域的技术人员可以更好的理解本实用新型并能予以实施,但所举实施例不作为对本实用新型的限定。
如图1所示,一种旋转装置底座,包括底座本体1,在底座本体1上固定有固定块2,固定块2自上而下设置有开口通孔3,开口位于固定块2的表面,开口通孔3为四分之三圆柱体容腔。当旋转结构位于旋转轴的顶部或者中间位置时,旋转轴的底部可以插入开口通孔3里,旋转的时候,旋转轴可以被限制在四分之三圆柱体容腔里,由于通孔有开口,减少了与旋转轴的接触面积,进而减少了摩擦降低了损耗,另外,开口通孔3有一定的高度,平衡了旋转轴的受力,避免某一部位集中受力。进一步的,为了满足旋转结构位于旋转轴底部需要,旋转装置底座还包括若干个支撑台4,支撑台4通过螺钉7与底座本体1固定,支撑台4上设置有通孔一6和旋转结构5,旋转结构5与旋转轴底部相连且可实现旋转运动。旋转轴也可以穿过通孔一6。当一个支撑台4的旋转结构5报废掉的时候,可以换其他的支撑台的旋转结构使用而不需要整个装置都报废掉。进一步的,底座本体1上设置有通孔二8。旋转轴可以穿过通孔二与其他部件连接。进一步的,底座本体1上设置有盲孔9。当旋转的速度较小时,可以将旋转轴的底部插入盲孔9中,不需要增加额外结构即可将旋转轴限制在盲孔9中防止位置偏移。
本结构的旋转装置底座可以适应不同位置的旋转结构的需求,减少旋转过程中的摩擦和损耗,增加装置的使用寿命。
以上仅为本实用新型的优选实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或者等效流程变换,或者直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
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