[实用新型]一体化抛光磨轮

说明书

技术领域

本实用新型属于打磨设备制造技术领域，特别涉及到一种一体化抛光磨轮。

背景技术

打磨设备是一种用于磨地板面、墙面，天花板、橱柜面板或类似物磨削抛光的机械，其主要工作部件就是磨轮，磨轮在动力机构驱动下旋转进行地板面、墙面、橱柜面等磨削抛光，加工速度快，效率高，质量好。目前针对一些异形部件来说，还没有合适的抛光磨轮来进行抛光，只能手工抛光，不仅劳动强度大、效率低，而且抛光加工的一致性很差，特别是边角处难以保证加工质量。

发明内容

本实用新型的目的是提出一种一体化抛光磨轮，利用该一体化抛光磨轮可以对一些异形部件的边角处进行自动抛光，从而降低劳动强度，提高加工质量。

本实用新型的一体化抛光磨轮包括一个圆盘状的刚性基体，所述刚性基体的中央设有用于固定刚性基体的轴孔，所述刚性基体的表面设有弹性基体，所述弹性基体表面设有抛光材料层。

在抛光时，将刚性基体采用直接轴孔装配或采用锁头柄的装配方式与中轴连接，然后利用电机通过中轴带动一体化抛光磨轮转动，一体化抛光磨轮表面的抛光材料层与待抛光部件接触，对其进行抛光，由于刚性基体与抛光材料层之间设有弹性基体，因此抛光材料层与待抛光部件之间为弹性接触而不是纯刚性接触，这样就不会碰坏待抛光部件的表面，提高了抛光效果。

上述抛光材料层由酚醛树脂、环氧树脂、金刚石微粉、碳化硅微粉、氧化铈抛光粉、三氧化二铬、菱苦土，通过混合硫化热压机热压成形于弹性基体表面，所述各种成分的重量含量如下：酚醛树脂15～25%、环氧树脂15～25%、金刚石微粉10～20%、碳化硅微粉10～20%、氧化铈抛光粉10～25%、三氧化二铬4～10%、菱苦土4～10%。上述抛光材料层能够与弹性基体形成分子键的结合，满足对无机非金属材料抛光的要求，具有寿命长、抛光效果好的优点。上述各种组分的粒径范围如下：金刚石微粉：5～40微米，碳化硅微粉：5～40微米，氧化铈抛光粉：0.5～1微米，三氧化二铬：5～20微米，菱苦土：0.8～2微米。

进一步地，所述抛光材料层的表面设有与所述轴孔连通的出水口。这样在抛光过程中，可以通过中空的中轴及出水口向外喷出冷却水，对抛光材料层及待抛光部件进行冷却，从而提高抛光效果。

具体来说，所述刚性基体为金属或硬塑料制成，所述弹性基体为橡胶或树脂制成。

进一步地，所述弹性基体的外周设有弧面，该弧面可以对各种异形部件的棱边角进行抛光。

本实用新型的一体化抛光磨轮结构简单、工作可靠，可以代替人工对石英石、人造岗石、石材、陶瓷、玻璃等无机非金属材料的异形边进行粗抛、中抛、细抛，具有很好的实用性。

附图说明

    图1是本实用新型的一体化抛光磨轮的俯视图。

    图2是本实用新型的一体化抛光磨轮的剖视图。

具体实施方式

下面对照附图，通过对实施实例的描述，对本实用新型的具体实施方式如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理等作进一步的详细说明。

实施例1：

如图1、2所示，本实施例的一体化抛光磨轮包括一个圆盘状的刚性基体1，所述刚性基体1的中央设有用于固定刚性基体1的轴孔2，所述刚性基体1的表面设有弹性基体3，所述弹性基体3的外周设有弧面6，该弧面6的表面设有抛光材料层4。

抛光材料层4由酚醛树脂、环氧树脂、金刚石微粉、碳化硅微粉、氧化铈抛光粉、三氧化二铬、菱苦土，通过混合硫化热压机热压成形于弹性基体3表面，所述各种成分的重量含量如下：酚醛树脂15～25%、环氧树脂15～25%、金刚石微粉10～20%、碳化硅微粉10～20%、氧化铈抛光粉10～25%、三氧化二铬4～10%、菱苦土4～10%。上述抛光材料层4能够与弹性基体3形成分子键的结合，满足对无机非金属材料抛光的要求，具有寿命长、抛光效果好的优点。上述各种组分的粒径范围如下：金刚石微粉：5～40微米，碳化硅微粉：5～40微米，氧化铈抛光粉：0.5～1微米，三氧化二铬：5～20微米，菱苦土：0.8～2微米。

抛光材料层4的表面设有与所述轴孔2连通的出水口5。这样在抛光过程中，可以通过中空的中轴及出水口5向外喷出冷却水，对抛光材料层4及待抛光部件进行冷却，从而提高抛光效果。

在抛光时，将刚性基体1采用直接轴孔2装配或采用锁头柄的装配方式与中轴连接，然后利用电机通过中轴带动一体化抛光磨轮转动，一体化抛光磨轮表面的抛光材料层4与待抛光部件接触，对其进行抛光，由于刚性基体1与抛光材料层4之间设有弹性基体3，因此抛光材料层4与待抛光部件之间为弹性接触而不是纯刚性接触，这样就不会碰坏待抛光部件的表面，提高了抛光效果。