[实用新型]立轴密封结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种密封结构，特别是涉及一种立轴密封结构。 

背景技术

目前，用于立轴的迷宫式密封结构，传统的做法是，仅仅在立轴和轴承座之间的挡圈上形成很小的曲折间隙，从而构成迷宫结构，进而实现密封效果。但现实问题是，由于立轴在高速旋转时，立轴下方大量的粉尘很容易进入到迷宫结构内，从而对该密封结构的密封效果造成了严重的影响。如何能够减少甚至完全避免因立轴旋转产生的粉尘进入迷宫结构，从而保证该密封结构的良好密封效果，是相关领域技术人员亟待解决的技术问题。 

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述现有技术中的不足，提供一种立轴密封结构。该立轴密封结构能够使进入迷宫结构的粉尘减少，提高了密封效果。 

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：立轴密封结构，包括设置在轴承座与立轴之间的密封挡圈，所述轴承座的内侧面上靠近密封挡圈的位置开设有多个用于构成迷宫结构的凹槽一，所述密封挡圈外侧面的下部设置有用于引导粉尘偏离密封挡圈的粉尘引导面，所述轴承座的下端设置有粉尘反弹面。 

上述的立轴密封结构，其特征在于：所述密封挡圈的粉尘引导面上开设有凹槽二。 

上述的立轴密封结构，其特征在于：所述粉尘引导面和粉尘反弹面均 为光滑面。 

上述的立轴密封结构，其特征在于：所述轴承座内侧面的下端与粉尘反弹面之间的过渡面为弧形。 

本实用新型与现有技术相比具有以下优点： 

1、本实用新型的结构简单，设计新颖合理。 

2、本实用新型通过设置粉尘引导面和粉尘反弹面，能够使得上升的粉尘，经粉尘引导面的引导后反射到粉尘反弹面上并向外辐射弹出，大部分被甩出，其余的继续顺着立轴向上，经过所述迷宫结构的阻挡来实现密封，通过粉尘引导面和粉尘反弹面以及迷宫结构的组合密封，达到完全密封的效果。 

3、本实用新型通过设置凹槽二，使得上升的粉尘被凹槽二周边的气流带动反射到粉尘反弹面上并向外辐射弹出，使得绝大部分的粉尘被辐射弹出，进一步减少了进入迷宫结构的粉尘的量。 

4、本实用新型通过将轴承座的内侧面下端与粉尘反弹面之间的过渡面设置为弧形，使得上升的粉尘经粉尘引导面的引导后，能够顺利的反射到粉尘反弹面上，提高了工作可靠性。 

5、本实用新型的实现成本低，使用效果好，便于推广使用。 

综上所述，本实用新型结构简单，设计新颖合理，工作可靠性高，使用效果好，便于推广使用。 

下面通过附图和实施例，对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。 

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。 

图2为图1中A处的放大图。 

附图标记说明: 

1—轴承座；         1-1—粉尘反弹面；     1-2—过渡面； 

2—凹槽一；         3—立轴；             4—密封挡圈； 

4-1—粉尘引导面；   4-2—凹槽二；         5—轴承。 

具体实施方式

如图1和图2所示的一种立轴密封结构，包括设置在轴承座1与立轴3之间的密封挡圈4，所述轴承座1的内侧面上靠近密封挡圈4的位置开设有多个用于构成迷宫结构的凹槽一2，所述密封挡圈4外侧面的下部设置有用于引导粉尘偏离密封挡圈4的粉尘引导面4-1，所述轴承座1的下端设置有用于将偏离密封挡圈4的粉尘反弹到轴承座1下方的粉尘反弹面1-1。 

本实施例中，所述立轴3穿过轴承座1上的轴承5，并从轴承座1穿出，所述密封挡圈4位于轴承5的下方。 

如图2所示，所述密封挡圈4的粉尘引导面4-1上开设有凹槽二4-2。本实施例中，所述凹槽二4-2位于粉尘引导面4-1的上部。所述粉尘引导面4-1和粉尘反弹面1-1均为光滑面。 

使用时，立轴3带动密封挡圈4高速旋转，当机床切削加工产生的摩擦热使冷却液气化后夹带着粉尘上升，经粉尘引导面4-1的引导后，反射到粉尘反弹面1-1上并向外辐射弹出（如图1中箭头所示），大部分被甩出，其余的继续顺着轴伸端向上，经过所述迷宫结构的阻挡来实现密封，通过粉尘引导面4-1和粉尘反弹面1-1以及迷宫结构的组合密封，达到完全密封的效果。通过设置凹槽二4-2，使得上升的粉尘被凹槽二4-2周边的气流带动反射到粉尘反弹面1-1上并向外辐射弹出，使得绝大部分的粉尘被辐射弹出，进一步减少了进入迷宫结构的粉尘的量。