[实用新型]染池均热结构

权利要求书

1.一种染池均热结构，包括浸染织物采用金属制成的染池（100），其特征在于：

所述染池（100）在水平方向或者垂直方向上均布有中空屏蔽层（200），所述中空屏蔽层（200）由金属框架（210）和封闭所述金属框架（210）的两层屏蔽网（220）组成，所述中空屏蔽层（200）内设置有产生微波的磁控管，所述中空屏蔽层（200）在所述染池（100）的池壁上设置有令所述中空屏蔽层水平或者垂直移动的平移构件（300）。

2.根据权利要求1所述的染池均热结构，其特征在于：所述中空屏蔽层（200）连接同一平移构件（300），在所述平移构件（300）的驱动下，所述中空屏蔽层（200）同步水平或者垂直移动。

3.根据权利要求1所述的染池均热结构，其特征在于：所述中空屏蔽层（200）在所述染池的垂直方向将染池（100）逐层分割，所述中空屏蔽层（200）在所述平移构件（300）的作用下，每个中空屏蔽层（200）移动区域之间的距离小于所述中空屏蔽层（200）的移动距离。

4.根据权利要求1所述的染池均热结构，其特征在于：所述染池（100）的顶部设置有微波屏蔽盖（110）。