[实用新型]一种多级回旋式氧化反应器有效
申请号: | 201320283358.0 | 申请日: | 2013-05-21 |
公开(公告)号: | CN203402949U | 公开(公告)日: | 2014-01-22 |
发明(设计)人: | 赵志龙;王兆才 | 申请(专利权)人: | 宁波市恒洁水务发展有限公司 |
主分类号: | C02F1/72 | 分类号: | C02F1/72 |
代理公司: | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人: | 曾少丽 |
地址: | 315000 浙江省宁*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 多级 回旋 氧化 反应器 | ||
技术领域
本实用新型涉及水处理技术领域,特别是指一种多级回旋式氧化反应器。
背景技术
众所周知,电极电位直接决定了物质的氧化或还原能力。羟基自由基具有极高的氧化电极电位(2.80v),仅次于(3.06v),它是最强的氧化剂之一,它的电子亲和能力为596.3KJ,容易进攻高电子云密度点,并且通过电子转移和加成反应,能够无选择的与污水中的污染物发生反应,通过破链断键,将污染物氧化称为二氧化碳、水、部分物质直接矿化成盐,而不会产生二次污染。而普通产生羟基自由基的方法(如fenton)对反应条件要求比较苛刻,必须是pH在5左右(添加fenton试剂后pH约为3或更低),为了发生完全反应,必须先加酸后加碱进行调节,因为操作复杂,运行成本高,工作环境恶劣,且系统由于亚铁离子的浓度高,处理后的废水可能带有颜色或者容易出现返色现象。而其他诸如紫外线或者臭氧也能产生氢氧离子,但只是在水质较好的净水处理过程中用于杀菌、消毒,如果处理高污染负荷的废水则需要大量的能量来维持,运行成本高且不稳定,目前还处于实验室阶段。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种设计合理,结构紧凑,各操作部分相互制约性小,易于工程设计、安装以及检修多级回旋式氧化反应器。
本实用新型的技术方案是这样实现的:一种多级回旋式氧化反应器,包括一个密闭的罐体;所述罐体的中部设置有填料层,所述罐体上设置有进水口、出水口和加药口,所述罐体内设置有回旋式的内切道。
进一步、所述多级回旋式氧化反应器还包括第一进药装置和第二进药装置;所述加药口包括第一加药口和第二加药口;所述第一进药装置与第一加药口连通,所述第二进药装置与第二加药口连通。
进一步、所述填料层呈圆管型;所述填料层包括催化剂通道和空气通道。
进一步、所述催化剂通道上周面上设置有用于释放催化剂的若干通孔;所述空气通道周面上设置有用于导出空气的若干通孔。
进一步、所述的进水口设置在罐体的下方,所述出水口设置在罐体的上方。
本实用新型的一种多级回旋式氧化反应器,整个装置设计合理,结构紧凑,各操作部分相互制约性小,易于工程设计、安装以及检修;而且可以根据不同的进出水水质和水量,灵活操作,根据工程要求随时调整运行状态和相应的药剂添加量,达到最佳运行状态。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型一种多级回旋式氧化反应器的剖视结构示意图。
1、罐体;2、第一进药装置;3、第二进药装置;4、填料层;5、进水口;6、出水口;7、内切道;8、催化剂通道;9、空气通道;21、第一加药口;31、第二加药口。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
如图1所示:一种多级回旋式氧化反应器,包括一个密闭的罐体1;所述罐体1的中部设置有填料层4,所述罐体上设置有进水口5、出水口6和加药口,所述罐体1内设置有回旋式的内切道7。
上述的一种多级回旋式氧化反应器、所述多级回旋式氧化反应器还包括第一进药装置2和第二进药装置3;所述加药口包括第一加药口21和第二加药口31;所述第一进药装置2与第一加药口21连通,所述第二进药装置3与第二加药口31连通。
上述的一种多级回旋式氧化反应器、所述填料层4呈圆管型;所述填料层4包括催化剂通道8和空气通道9。
上述的一种多级回旋式氧化反应器、所述催化剂通道8上周面上设置有用于释放催化剂的若干通孔,所述通孔无规则的分布在催化剂通道8上周面上;所述空气通道9上周面上设置有用于导出空气的若干通孔,所述通孔无规则的分布在空气通道9上周面上。
上述的一种多级回旋式氧化反应器、所述的进水口5设置在罐体1的下方,所述出水口6设置在罐体1的上方。
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