[实用新型]一种高信噪比切趾光栅有效

专利信息
申请号: 201320279258.0 申请日: 2013-05-21
公开(公告)号: CN203275698U 公开(公告)日: 2013-11-06
发明(设计)人: 甄晓民 申请(专利权)人: 甄晓民
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 王丹
地址: 天津市河西区*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 高信噪 光栅
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种光无源器件,具体指一种高信噪比切趾光栅。

背景技术

光纤光栅是利用光纤材料的光敏性,通过紫外光曝光的方法将入射光相干场图样写入纤芯,在纤芯内部产生沿纤芯轴向的折射率周期性变化,从而形成永久性空间的相位光栅,其作用实质上是在纤芯内形成一个窄带的(透射或反射)滤波器或反射镜。当一束宽光谱光经过光纤光栅时,满足光纤光栅布拉格条件的波长将产生反射,其余的波长透过光纤光栅继续传输。而光纤光栅透射谱和反射谱中主峰两边会出现一些小的波峰,使光栅的边模抑制比降低,对于一些高端光通信器件(如WDM波分复用器)中就不能使用这种光栅。为了提高光纤光栅的性能,必须对光栅进行切趾,以满足各种不同用途光栅的要求。目前国内外只能制作-15dB到 -20dB的切趾光栅,极大的限制了高端光通信器件的发展。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种高信噪比切趾光栅,以解决现有切趾光栅不能满足高端光通信器件要求的问题。

为解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案是:一种高信噪比切趾光栅,其特征在于:它包括纤芯和包层,所述的纤芯和包层上横向阵列有栅格沟槽,位于纤芯中间的栅格沟槽的沟槽深度最深,其它栅格沟槽以位于纤芯中间的栅格沟槽为中心向两侧对称分布,沟槽深度依次递减,相邻栅格沟槽的间距为1.5-1.7μm,所述切趾光栅的带宽等于或小于1.5nm,边模抑制比等于或高于-30dB。

按上述方案,所述光栅的带宽优选为0.3~1.5nm,边模抑制比优选为-30dB~-35dB。

按上述方案,所述的相邻栅格沟槽的间距相等。

本实用新型的有益效果为:其性能稳定,尤其是边模抑制比等于或高于-30dB,可用于WDM切趾光栅,满足高端光通信器件的要求。

附图说明

图1是本实用新型一实施例的结构示意图。

图2是本实用新型一实施例的制作原理图。

图3是实施例1反射图谱。

图4是实施例1透射图谱。

图5是实施例2反射图谱。

图6是实施例2透射图谱。

其中,1-纤芯,2-包层,3-栅格沟槽,4-准分子激光器,5-反射镜,6-电动平移台,7-柱面镜,8-相位模板,9-光纤。

具体实施方式

   下面结合附图对本实用新型进行详细描述。

   参见图1,一种高信噪比切趾光栅,包括纤芯1和包层2,所述的纤芯1和包层2上横向等间距阵列有由激光刻写所形成的特殊调制幅度的栅格沟槽3,位于纤芯1中间的栅格沟槽3沟槽深度最深,其它栅格沟槽3以位于纤芯1中间的栅格沟槽为中心向两侧对称分布,沟槽深度依次递减,相邻两栅格沟槽3的间距为1.5—1.7μm(本实施例中相邻栅格沟槽3的间距相等),所述切趾光栅的带宽等于或小于1.5nm,边模抑制比等于或高于-30dB。

参见图2,本实用新型切趾光栅的制作原理是:使氟化氪气体准分子激光器4发出的248nm紫外光激光束照射在反射镜5上,反射镜5将准分子激光器4发出的激光束反射到柱面镜7上,调整柱面镜7,使柱面镜7垂直于从反射镜5反射来的激光束,柱面镜7将激光束聚焦后照射在相位模板8上,调整相位模板8使相位模板8垂直于经过柱面镜7聚焦的激光束并产生衍射光,衍射光照射在光纤9上使光纤9曝光,控制激光束照射光纤9的曝光量以等于需要的光栅数据。根据需要制作的不同切趾光栅的要求,得到不同的函数曲线,高精度电动平移台6携带反射镜5随着函数曲线的变化而改变移动速度,等于控制激光束照射在光纤9上的曝光量,同时控制电动平移台6的移动距离实现光栅的长度的控制,得到所需切趾光栅的带宽。

实施例1:

本实施例反射图谱如图3所示,透射图谱如图4所示,本实施例切趾光栅带宽在-30dB为0.705nm、边模抑制比为-32dB,测试条件为:分辨率0.01nm ,灵敏度HIGH1(测试设备ANDO6317B),平均值:1,采样点:501,光栅的中心波长为1551.979nm。

实施例2:

    本实施例反射图谱如图5所示,透射图谱如图6所示,本实施例切趾光栅带宽在-0.5dB为0.398nm、边模抑制比为-31dB,测试条件为:分辨率0.01nm ,灵敏度HIGH1(测试设备ANDO6317B),平均值:1,采样点:501,光栅的中心波长为1552.014nm。

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