[实用新型]一种用于大面积纳米压印的自适应压印头有效
| 申请号： | 201320254208.7 | 申请日： | 2013-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN203217240U | 公开（公告）日： | 2013-09-25 |
| 发明（设计）人： | 兰红波 | 申请（专利权）人： | 青岛博纳光电装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人： | 邓建国 |
| 地址： | 266000 山东省青岛市高*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 大面积 纳米 压印 自适应 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于大面积纳米压印的自适应压印头，其特征是，包括：
一维位移平台；一维位移平台与连接支架立板相连接；
连接支架；所述连接支架包括立板、底板，所述立板和底板垂直连接；
连接板；连接板一面通过弹簧和导柱与连接支架的底板连接；
弹簧；弹簧固定在连接支架底板和连接板之间；
导柱；导柱穿过连接板、弹簧，并与连接支架底板固定。
2.如权利要求1所述的用于大面积纳米压印的自适应压印头，其特征是，所述连接板上还设有筋板。
3.如权利要求1所述的用于大面积纳米压印的自适应压印头，其特征是，所述导柱穿过连接支架底板，并通过固定螺母固定。
4.如权利要求1所述的用于大面积纳米压印的自适应压印头，其特征是，所述弹簧置于连接支架底板和连接板的四个角的位置，数量为4个。
5.如权利要求1所述的用于大面积纳米压印的自适应压印头，其特征是，所述连接支架底板的下表面和连接板的上表面设置有凹槽。
6.如权利要求1所述的用于大面积纳米压印的自适应压印头，其特征是，所述连接板上还设有通孔。
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