[实用新型]乙炔的清净设备有效

专利信息
申请号: 201320249681.6 申请日: 2013-05-09
公开(公告)号: CN203256174U 公开(公告)日: 2013-10-30
发明(设计)人: 郭宏彬;陈巨德;王颖利 申请(专利权)人: 安徽天辰化工股份有限公司
主分类号: C07C11/24 分类号: C07C11/24;C07C7/11
代理公司: 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 代理人: 郑自群
地址: 23000*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 乙炔 清净 设备
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种乙炔反应的前置处理设备,尤其涉及乙炔的清净设备。

背景技术

乙炔在化学前有比较精处理,现有技术已经公开了这类精处理设备,例如专利201120512443.0所公开的那种乙炔的清净系统。在该清净系统中,乙炔气经乙炔压缩机后进入到第一清净塔,次氯酸钠配置槽连通第二清净塔的顶部进液口,次氯酸钠溶液通过泵体输送至该清净塔。第二清净塔的底部出液口连接第一清净塔的顶部进液口,第一清净塔的出液口连接冷却塔的喷淋设备,第一清净塔的排气口连通第二清净塔的进气口,第二清净塔的排气口连通中和塔。该案可以实现对部分废料的回收,节约了一定的成本。在该案中,泵体直接将次氯酸钠喷至清净塔,由于泵体出口压力变化大造成次钠流量不稳定。严重影响清净的使用效果,造成乙炔气的S、P杂质超标,影响了乙炔气的纯度。鉴于此,有必要对现有技术做进一步改进。

实用新型内容

本实用新型提出一种乙炔的清净设备,解决了现有技术中的清净系统的清净效果不够理想,乙炔气的S、P杂质超标的缺陷。

本实用新型的技术方案是这样实现的:一种乙炔的清净设备,包括至少一个的清净塔、乙炔泵、次氯酸钠泵、所述乙炔泵的输出端连接至所述清净塔,其特征在于还包括至少一个的缓冲罐,所述缓冲罐至少由罐体、输入口以及输出口组成,所述输入口连接至所述次氯酸钠泵,所述输出口连接至所述清净塔,其中,所述罐体包括底面和侧面,所述输入口和输出口固定在所述侧面上,所述输入口与所述底面的距离大于所述输出口与所述底面的距离。

进一步的,至少一个的所述清净塔的底部具有输出通道,该输出通道连接至所述次氯酸钠泵。

进一步的,所述乙炔的清净设备还包括中和塔,所述清净塔的输出端连接至所述中和塔。

实施本实用新型的这种乙炔的清净设备,具有以下有益效果:次氯酸钠从输入口流入后,经过罐体的缓冲,从输出口流出的次氯酸钠溶液的压力和流量得到初步稳定,便于清净塔中的次氯酸钠溶液充分吸附乙炔气体中的杂质。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型乙炔的清净设备的示意图;

图2为图1的缓冲罐的示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

在现有的稳压阀中,超压部分的溶液会回流至泵体,实际上降低了泵体的有效功率。而本实用新型的缓冲罐4通过暂时存储次氯酸钠溶液的方式实现稳定流量,不会降低泵体的有效功率。

如图1、2所示的本实用新型的这种乙炔的清净设备,其包括:清净塔1、乙炔泵2、次氯酸钠泵3、以及缓冲罐4。所述乙炔泵2的输出端连接至所述清净塔1。所述缓冲罐4至少由罐体41、输入口42以及输出口43组成,所述输入口42连接至所述次氯酸钠泵3,所述输出口43连接至所述清净塔1。所述罐体41包括底面411和侧面412,所述输入口42和输出口43固定在所述侧面412上,并且,所述输入口42与所述底面411的距离大于输出口43与底面411的距离。

清净塔1的底部具有输出通道13,该输出通道13连接至所述次氯酸钠泵3,以便使用后的次氯酸钠溶液可以回收利用。所述乙炔的清净设备还包括中和塔5,所述清净塔1的输出端连接至所述中和塔5。

图1的清净塔1的虚线箭头表示乙炔和次氯酸钠溶液的不同流向。图2的虚线箭头的方式表示次氯酸钠溶液的流向。由于缓冲罐4的存在,从输入口42流入的不稳定的次氯酸钠溶液经过缓冲罐4的缓冲,进入清净塔1后的流量更加稳定。更加稳定的次氯酸钠溶液,可以提高乙炔气体的清净效果,显然,本实用新型的发明目的得以完成。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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