[实用新型]玻璃片超声波清洗设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种清洗设备，尤其是一种平板玻璃片超声波清洗设备。

背景技术

在平板玻璃片的生产过程中，平板玻璃片成型之后需要进行清洗以去除表面的残留物。

现阶段的清洗方式是加酸进行表面清洗，首先将玻璃微珠放入酸液中浸泡，然后将混合物进行脱水分离，将分离后的玻璃微珠加水进行漂洗，漂洗后再脱水分离，然后再漂洗，这样反复的漂洗直到达到技术要求。这种方法清洗效率低，也难达到清洗标准，并且这样清洗后会产生大量的酸性污水，一是会对环境造成污染，二是处理起来会消耗大量的人力物力。

实用新型内容

鉴于上述状况，有必要提供一种可以即清洗干净又不污染环境的玻璃片超声波清洗设备。

为解决上述技术问题，提供一种玻璃片超声波清洗设备，包括传送轨道、玻璃片进料器和若干依次设置的清洗室，该传送轨道设于该清洗室上方，该玻璃片进料器设于该传送轨道与该清洗室之间，该玻璃片进料器一端连接在该传送轨道上，该玻璃片进料器通过该传送轨道的运动依次进入各清洗室进行清洗。

该若干清洗室包括依次设置的碱性液体超声波清洗室、纯净水漂洗室、酸性液体超声波清洗室和高纯水落差漂洗室。

该碱性液体超声波清洗室和酸性液体超声波清洗室设置有超声波振荡器。

该纯净水漂洗室和高纯水落差漂洗室设有水纯化设备。

该高纯水落差漂洗室内部设有隔板，该隔板将该高纯水落差漂洗室分成高纯水落差蓄水室和高纯水落差冲洗室，该隔板高度低于该高纯水落差漂洗室边缘高度。

上述玻璃片超声波清洗设备，由于超声波会在清洗缸中产生静波，并且使用振荡频率为25kHz和40kHz，这样就使得该超声波不会与无线电波发生干扰。振荡液体的能量可以把杂质从表面上松动下来，确保了整个玻璃表面都得到完全清洗。

附图说明

图1是本实用新型玻璃片超声波清洗设备的结构示意图。 

10、碱性液体超声波清洗室；   20、纯净水漂洗室；   30、酸性液体超声波清洗室；   40、高纯水落差漂洗室；   42、高纯水落差冲洗室；   44、高纯水落差蓄水室；   46、隔板；   50、超声波振荡器；   60、水纯化设备；   70、玻璃片进料器；   80、传送轨道。

具体实施方式

下面将结合附图及实施例对本实用新型的玻璃片超声波清洗设备作进一步的详细说明。

请参见图1，本实用新型实施例的一种玻璃片超声波清洗设备，其包括传送轨道80、玻璃片进料器70和若干依次设置的清洗室，该传送轨道80设于该清洗室上方，该玻璃片进料器70设于该传送轨道80与该清洗室之间，该玻璃片进料器70一端连接在该传送轨道80上，该玻璃片进料器70通过该传送轨道80的运动依次进入各清洗室进行清洗。

该若干清洗室包括依次设置的碱性液体超声波清洗室10、纯净水漂洗室20、酸性液体超声波清洗室30和高纯水落差漂洗室40。

该碱性液体超声波清洗室10和酸性液体超声波清洗室30设置有超声波振荡器50；该纯净水漂洗室20和高纯水落差漂洗室40设有水纯化设备60。

该高纯水落差漂洗室40内部设有隔板46，该隔板46将该高纯水落差漂洗室分40成高纯水落差蓄水室44和高纯水落差冲洗室42，该隔板46高度低于该高纯水落差漂洗室40的边缘高度，当玻璃片通过传送轨道80进入高纯水落差冲洗室42时，通过从高纯水落差蓄水室44落下的纯水，通过水的冲力使玻璃片洗得更干净。

本实用新型玻璃片超声波清洗设备在清洗平板玻璃片时，一般允许使用的振荡频率是25kHz和40kHz，所以不会与无线电波发生干扰。各清洗室内的振荡液体的能量可以把平板玻璃片上的杂质从表面上松动下来。玻璃片垂直地排列并侵泡在清洗缸中。碱性液体超声波清洗室10和酸性液体超声波清洗室30内装配着超声波振荡器50，为了在清洗的同时对玻璃片的腐蚀产生影响，在酸性液体超声波清洗室30中放置了酸性溶液，酸液能断开玻璃表面的Si-O-Si键，并产生具有反应活性很高的羟基族（ Si-OH ）。由于超声波会在清洗缸中产生静波，为了确保整个玻璃表面都得到完全清洗，在清洗过程中不断晃动玻璃片，使整个玻璃片清洗的更彻底。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型,任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本实用新型技术方案内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本实用新型技术方案的范围内。