[实用新型]一种抛釉砖有效

专利信息
申请号: 201320232543.7 申请日: 2013-05-03
公开(公告)号: CN203383453U 公开(公告)日: 2014-01-08
发明(设计)人: 周燕;丘云灵;曾德朝 申请(专利权)人: 广东东鹏陶瓷股份有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;丰城市东鹏陶瓷有限公司;佛山市东鹏陶瓷有限公司
主分类号: E04F13/077 分类号: E04F13/077;B32B3/02
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地址: 528031 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 抛釉砖
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种陶瓷建材产品,更具体地涉及一种抛釉砖。

背景技术

抛釉砖是近年来新兴的一种建筑陶瓷产品,其在素坯砖坯上印花,然后施以透明釉,入窑烧成后抛光,因此集合了抛光砖、仿古砖、瓷片三种产品的优势,产品完全释放了釉面砖哑色暗光的含蓄性,解决了半抛砖易藏污的缺陷,具备了抛光砖的光泽度、瓷质硬度,同时也拥有仿古砖的釉面高仿效果,以及瓷片釉面丰富的印刷效果。

因为抛釉砖的釉面层较薄,通常只有0.5~1.5mm,而且还需要抛磨加工处理,因此非常容易露底,损伤印花图案层造成缺陷,而且制品的印花图案层效果仅能为平面,无立体质感。

发明内容

鉴于背景技术中提出的问题,本实用新型提供一种新型的抛釉砖,其由下至上包括:坯体层,印花图案层,釉面层,其中所述釉面层为大于等于两层釉复合形成的装饰釉层。因为不同釉料的烧成膨胀收缩系数不同,两层或两层釉复合,两层釉面结合处会因为烧成时的膨胀收缩系数不一致而具有凹凸起伏,其也能减少釉面层与坯体层的应力,减少坯体层翘弯,进而减少抛光时的过抛露底问题。

另外,透过其会使釉面层下的印花图案层图案具有立体效果。

进一步优选,使印花图案层未布满坯体层表面,且印花图案层位于坯体层表面中部位置会达到更优的效果。鉴于釉面层在烧成过程中的膨胀收缩系数大于坯体层,通常砖体边缘处会有一定程度的翘弯,抛釉时,也通常是边缘区域出现过抛露底缺陷。印花图案层未布满坯体层表面,且印花图案层位于坯体层表面中部位置,在进行抛釉处理时,可以减少对印花图案层的损伤。

另外,更进一步优选,本实用新型所提供的抛釉砖产品,在印花图案层呈现的图案周围具有金属光泽层,金属光泽层能弥补因过抛对印花图案层的损伤,还能使整个产品装饰效果更强,不丧失美感,尤其是以金色或银色金属光泽釉装饰时,产品更具高贵典雅韵味,还能减少废品率。

一种新型的抛釉砖,其由下至上包括:坯体层,印花图案层,釉面层,其中所述釉面层由至少两层装饰釉层叠加而成。

所述装饰釉层包括但不限于有色窑变釉层、有色裂纹釉层、有色析晶釉层。

优选地,在上述抛釉砖中,印花图案层覆盖坯体层的一部分,并位于坯体层中部。 

如上所述的抛釉砖,还包括金属光泽层。其中所述的金属光泽层位于印花图案层和坯体层之间,并完全覆盖坯体层。进一步优选,在金属光泽层和印花图案层之间还有一层遮盖层,遮盖层与印花图案层覆盖区域保持一致,将印花图案层和金属光泽层分隔开。

另外,还可以将所述的金属光泽层和印花图案层在同一层,金属光泽层覆盖印花层未遮盖的坯体层。

如上所述的抛釉砖,优选地,在坯体层边缘设置多条倾斜的凹陷纹路,纹路长度为1~15mm,凹陷深度为0.5~1mm。

同现有技术相比,本实用新型具有如下优势:将原有单层结构的釉面层改为由至少两层装饰釉层叠加而成的结构,可以减少坯体变形,进而减少因为过抛造成的露底缺陷;而且,这种结构在两层装饰釉层的结合处为凹凸嵌接,会使印花图案层更为立体,装饰釉层的装饰效果也能和印花图案有机结合,丰富产品品系,降低废品率。

优选方式,可以改变原有完全覆盖坯体层的印花方式,进一步减少抛釉砖因为过抛而出现的露底缺陷。还可以将金属光泽装饰与印花图案装饰有机结合,丰富现有产品品系,还能降低废品率。

附图说明

图1为本实用新型实施例1横截面示意图。

图2为釉面层401局部横截面放大示意图。

图3为本实用新型实施例2的俯视示意图,在本实施例中印花图案层的图案为荷花,其周围为金色的金属光泽层。

图4为本实用新型实施例2的横截面示意图。

图5为本实用新型实施例3的横截面示意图。

图6为本实用新型实施例5的横截面示意图。

附图标号说明:101—坯体层;201—金属光泽层;301—印花图案层;401—釉面层,401A、401B—装饰釉层,501—遮盖层。

具体实施方式

结合附图和适当的优选实施例对本实用新型方案做具体说明。应当理解,附图不是严格按照比例绘制,而且其中可能会有一些本领域普通技术人员可以理解的缺省。

实施例1

参照附图1和附图2,在本实施例中,选择印花图案层为部分覆盖坯体层结构。当然,本领域技术人员应该理解印花图案层完全覆盖坯体层也可以,只需选择合适的印花图案模板既可。

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