[实用新型]波束调控装置有效

专利信息
申请号: 201320213057.0 申请日: 2013-04-24
公开(公告)号: CN203277653U 公开(公告)日: 2013-11-06
发明(设计)人: 李宏强;魏泽勇;武超;苏晓鹏;龚知捷 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: H01Q15/00 分类号: H01Q15/00;H01Q15/02
代理公司: 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 代理人: 胡时冶
地址: 200092 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 波束 调控 装置
【权利要求书】:

1.一种波束调控装置,其特征在于,包括交替设置的金属层和介质层,其中,

所述金属层的厚度小于工作波长的三分之一,所述介质层的厚度小于工作波长的二分之一,所述金属层的层数应大于相位调控范围与π的比值,所述介质层的层数与所述金属层的层数的差值不大于1,且所述金属层和所述介质层交替叠加的总厚度不超过两个波长;所述的金属层上具有至少一个超原胞,每个超原胞包括少于20×20个的金属谐振单元,且每一个金属谐振单元在平面内的尺寸小于一个工作波长。

2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述金属层为2~8层,与金属层交替设置的介质层的层数为1~9层。

3.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,当工作波长为30mm时,所述金属层为3层,所述的介质层为2层。

4.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述金属层为任何金属材料。

5.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述介质层为普通电介质,或者为介电常数或者磁导率可调的介质。

6.根据权利要求5所述的装置,所述普通介质为:微波波段的印刷电路板、氧化硅或者氧化铝陶瓷;所述介电常数或者磁导率可调的介质为:铁氧体、铁电介质、铁磁介质或者非线性介质。

7.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述金属谐振单元的形状为金属层上镂空的圆环孔、方环孔、椭圆环孔、圆孔、方孔、三角孔、Y形孔或椭圆孔,或者为金属圆片、方形片或椭圆片,或者为分形结构。

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