[实用新型]波束调控装置有效
申请号: | 201320213057.0 | 申请日: | 2013-04-24 |
公开(公告)号: | CN203277653U | 公开(公告)日: | 2013-11-06 |
发明(设计)人: | 李宏强;魏泽勇;武超;苏晓鹏;龚知捷 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | H01Q15/00 | 分类号: | H01Q15/00;H01Q15/02 |
代理公司: | 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 | 代理人: | 胡时冶 |
地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 波束 调控 装置 | ||
1.一种波束调控装置,其特征在于,包括交替设置的金属层和介质层,其中,
所述金属层的厚度小于工作波长的三分之一,所述介质层的厚度小于工作波长的二分之一,所述金属层的层数应大于相位调控范围与π的比值,所述介质层的层数与所述金属层的层数的差值不大于1,且所述金属层和所述介质层交替叠加的总厚度不超过两个波长;所述的金属层上具有至少一个超原胞,每个超原胞包括少于20×20个的金属谐振单元,且每一个金属谐振单元在平面内的尺寸小于一个工作波长。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述金属层为2~8层,与金属层交替设置的介质层的层数为1~9层。
3.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,当工作波长为30mm时,所述金属层为3层,所述的介质层为2层。
4.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述金属层为任何金属材料。
5.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述介质层为普通电介质,或者为介电常数或者磁导率可调的介质。
6.根据权利要求5所述的装置,所述普通介质为:微波波段的印刷电路板、氧化硅或者氧化铝陶瓷;所述介电常数或者磁导率可调的介质为:铁氧体、铁电介质、铁磁介质或者非线性介质。
7.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述金属谐振单元的形状为金属层上镂空的圆环孔、方环孔、椭圆环孔、圆孔、方孔、三角孔、Y形孔或椭圆孔,或者为金属圆片、方形片或椭圆片,或者为分形结构。
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