[实用新型]RTR连续镭射钻孔专用治具板有效
申请号: | 201320154228.7 | 申请日: | 2013-04-01 |
公开(公告)号: | CN203236129U | 公开(公告)日: | 2013-10-16 |
发明(设计)人: | 徐杨;蔡呈祺;梁江林;韩俊 | 申请(专利权)人: | 淳华科技(昆山)有限公司 |
主分类号: | B23K26/42 | 分类号: | B23K26/42 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 孙仿卫 |
地址: | 215300 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | rtr 连续 镭射 钻孔 专用 治具板 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种线路板制程中所使用的治具,具体地说,涉及一种用于RTR连续镭射钻孔中,放置于床台上以承载制品的治具板。
背景技术
现有的线路板RTR连续镭射钻孔制成中,通常直接将制品放置于床台上进行钻孔。由于床台上未设置对应落料的孔,故钻孔的废料无法及时排除,造成不可镭钻大孔径(D≥0.5mm)的通孔或盲孔。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种能够使钻孔产生的废料及时排除、以适应各种孔径的镭钻制程的RTR连续镭射钻孔专用治具板。
为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:
一种RTR连续镭射钻孔专用治具板,放置于线路板制程中的RTR连续镭射钻孔的床台上,用于承载制品以对其进行钻孔,其包括板状的本体,所述的本体上与所述的制品上具有开孔的部位相对应的位置开设有落屑孔,所述的落屑孔的底部外扩而形成孔径大于所述的落屑孔的孔径的通气孔。
优选的,所述的落屑孔的孔径大于所述的制品上的开孔。
优选的,所述的落屑孔的孔径比所述的制品上的开孔的孔径大0.75mm。
优选的,所述的通气孔的孔径为5mm。
优选的,所述的本体的厚度为2mm,所述的通气孔的深度为0.5-1mm。
优选的,所述的本体上还开设有若干个孔径为0.8mm的吸气孔。
优选的,所述的本体上还开设有四个拉料偏移确认孔,所述的拉料偏移确认孔开设于所述的本体的一侧部,并呈两列分布。
优选的,所述的本体的四角部位均开设有确认所述的制品的位置的确认孔。
优选的,所述的本体上沿拉料方向开设有两组人工拉料偏移对位孔。
优选的,所述的本体的一侧部还开设有两组确认所述的本体在所述的床台上的位置的床台对位孔。
由于上述技术方案运用,本实用新型与现有技术相比具有下列优点:由于本实用新型的RTR连续镭射钻孔专用治具板在其本体上开设了落屑孔,并将落屑孔的底部外扩形成通气孔,使得在镭射钻孔时所产生的废料能够由落屑孔及时的排除,避免废料对镭射钻孔的影响,能够快速、高效的完成镭射钻孔制程,提高了作业效率以及制品的良率。
附图说明
附图1为本实用新型的RTR连续镭射钻孔专用治具板的示意图。
附图2为本实用新型的RTR连续镭射钻孔专用治具板的落屑孔和通气孔的剖面放大示意图。
以上附图中:1、本体;3、底面;2、顶面;4、落屑孔;5、通气孔;6、吸气孔;7、床台对位孔;8、拉料偏移确认孔;9、人工拉料偏移对位孔;10、确认孔。
具体实施方式
下面结合附图所示的实施例对本实用新型作进一步描述。
实施例一:参见附图1和附图2所示。一种RTR连续镭射钻孔专用治具板,放置于线路板制程中的RTR连续镭射钻孔的床台上,用于承载制品以对其进行钻孔。
该RTR连续镭射钻孔专用治具板包括板状的本体1。该本体1放置于床台上,其底面3与床台相接触,当进行镭射钻孔时,制品由该本体1的一侧部(如附图1中的下侧部)进料而放置于该本体1的顶面2上。
本体1上与制品上具有开孔的部位相对应的位置开设有落屑孔4,落屑孔4的底部,即靠近本体1的底面3的一侧外扩而形成孔径大于落屑孔4的孔径的通气孔5(附图1中仅示出若干个落屑孔和通气孔为例,实际中可根据制品的不同而采用相应的设置)。落屑孔4的孔径大于制品上的开孔,例如落屑孔4的孔径比制品上的开孔的孔径大0.75mm。而通气孔5的孔径为5mm。由本体1的剖面上来看,本体1的厚度h1为2mm,通气孔5的深度h2为0.5-1mm,落屑孔4和通气孔5形成一阶梯状的通孔。若相邻的落屑孔4之间的距离较近,则其对应的通气孔5可以连接为一体。本体1上还开设有若干个孔径为0.8mm的吸气孔6。通气孔5与吸气装置相连接,当镭射钻孔产生废料时,可以将落入落屑孔4中的废料吸出而及时排除。
本体1的一侧部,如进料侧还开设有两组确认本体1在床台上的位置的床台对位孔7,以便于确认本体1在床台上的位置。
并且,本体1上还开设有四个拉料偏移确认孔8,拉料偏移确认孔8开设于本体1的一侧部,即进料侧,并呈两列分布。当进料时,可以通过该拉料偏移确认孔8与制品边缘的相对位置确定进料是否发生偏移。本体1的四角部位均开设有确认制品的位置的确认孔10,可以确认制品在本体1上的位置。
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