[实用新型]一种用于透射电镜薄膜样品制备的装置

说明书

技术领域

本实用新型属于金属材料样品制备领域，尤其涉及一种适用于透射电子显微镜薄膜样品制备装置。

背景技术

目前，在透射电子显微镜下观察的样品要求厚度必须在5-50nm内。常规方法是把试样用线切割机切割成厚500nm左右的薄片用胶粘贴在橡皮或金属等大块的载物体上，手工在砂纸或抛光机上研磨减薄到200nm以下，再剪切成φ3mm的薄圆片，然后对薄圆片进行电解抛光减薄。但是由于试样本身很薄，只有200nm厚所以在研磨减薄时手力很难控制样品减薄均匀，试样容易磨偏甚至破碎。后续的电解抛光减薄将难以为继，当然无法获得电子束能够穿透的薄区。专利CN201442215U提供了一种可以放在砂纸或磨抛机上的手动研磨盘，但是如果粘贴不平会影响研磨效果，装置需额外购买增加了成本。专利CN202420943U提供了一种直接将500nmφ3mm的圆片减薄至15nm的机械装置，但是样品的平行度和平面度难以保证。

随着科研的深化，透射电镜的工作量日益增加，因此亟需一种能够方便快速制备透射电镜薄膜样品的装置，尤其适用于样品的机械减薄阶段，既能直接将φ3mm的薄圆片减薄至30nm，又能保证样品的平行度和平面度，同时要求该装置容易加工、成本低廉、操作简单。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述问题和不足而提供一种用于透射电镜薄膜样品制备的装置、该装置成本低廉、操作简单，尤其适用于样品的机械减薄阶段。

一种用于透射电镜薄膜样品制备的装置，包括中心通孔的柱体、与柱体中心通孔相配合的手柄，其特征在于所述手柄呈T型，T型杆上部为带有螺纹的圆柱体，T型杆下部位光滑圆柱体，所述柱体中心通孔的上部为与手柄配合的螺纹，柱体中心通孔的下部为光滑的通孔，手柄底部设置磁铁圆片，柱体中心通孔的下部为光滑的圆柱体，手柄底部设置磁铁圆片，磁铁圆片直径不大于中心通孔直径。

本实用新型将透射电镜用φ3mm薄圆片试样直接吸附后进行磨制，并随时可以方便地在磨制过程中根据试样厚度逐渐手动调节手柄和柱体底部之间的距离以达到快速减薄的目的，并且确保样品能够达到理想的厚度、平行度和平面度；该装置结构简单、易于加工、成本低廉、操作简便。

附图说明

图1为本实用新型主视图。

图中1为柱体，2为磁铁圆片，3为手柄，4为中心通孔。

具体实施方式

如图1所示，一种用于透射电镜薄膜样品制备的装置，主要包括中心通孔4的柱体1、与柱体1中心通孔4相配合的手柄3，其特征在于所述手柄3呈T型，T型杆上部为带有螺纹的圆柱体，T型杆下部位光滑圆柱体，所述柱体1中心通孔4的上部为与手柄3配合的螺纹，柱体1中心通孔4的下部为光滑的通孔，手柄3底部设置磁铁圆片2，磁铁圆片直径不大于中心通孔直径。

本实用新型将透射电镜用φ3mm薄圆片试样直接吸附后进行磨制，并随时可以方便地在磨制过程中根据试样厚度逐渐手动调节手柄和柱体底部之间的距离以达到快速减薄的目的，并且确保样品能够达到理想的厚度、平行度和平面度；该装置结构简单、易于加工、成本低廉、操作简便。