[实用新型]曝光装置有效
| 申请号： | 201320132821.1 | 申请日： | 2013-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN203117641U | 公开（公告）日： | 2013-08-07 |
| 发明（设计）人： | 汪栋;方群 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种曝光装置，包括：提供平行曝光光线的光源模块，沿所述曝光光线传播方向依次设置的快门和掩膜板；其特征在于，所述快门与掩膜板之间设置有修正所述曝光光线传播方向保证其为平行光的光学修正机构。
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述光学修正机构包括沿所述曝光光线传播方向依次设置的偶数块凸透镜。
3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述凸透镜的横截面大于从所述快门出射的曝光光线的最大横截面。
4.根据权利要求1-3任意一项所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还包括设置在所述快门与掩膜板之间，且更接近所述掩膜板的透明掩膜板载台。
5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述透明掩膜板载台基质为石英玻璃。
6.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述光学修正机构设置在所述透明掩膜板载台之中。
7.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述光学修正机构设置在所述透明掩膜板载台与掩膜板之间。
8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，所述光学修正机构设置在所述掩膜板上方；所述光学修正机构与所述掩膜板为一体式结构。
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