[实用新型]一种带有纸巾架的浴室柜有效
| 申请号: | 201320111348.9 | 申请日: | 2013-03-12 |
| 公开(公告)号: | CN203220299U | 公开(公告)日: | 2013-10-02 |
| 发明(设计)人: | 林孝发;林孝山;郑俊华;陈苗展 | 申请(专利权)人: | 九牧厨卫股份有限公司 |
| 主分类号: | A47K1/02 | 分类号: | A47K1/02;A47K10/22 |
| 代理公司: | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人: | 张松亭 |
| 地址: | 362300 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 带有 纸巾 浴室柜 | ||
技术领域
本实用新型涉及卫浴领域,特别是一种带有纸巾架的浴室柜。
背景技术
现有的浴室柜通用的功能包括储物、梳洗、照镜等,功能较为单一,缺乏创新。另外,现有的纸巾架是通过在浴室墙壁上打孔来实现固定,影响美观,且处于浴室环境内,纸巾架的纸巾经常受水雾、灰尘及水渍等侵蚀,容易潮湿。因此,很有必要设计一种将浴室柜和纸巾架二合一的产品从而避免这种情况的发生。
实用新型内容
本实用新型的主要目的在于克服现有技术中的纸巾架位于浴室环境内,经常受水雾、灰尘及水渍等侵蚀,容易潮湿的缺点,提出一带有纸巾架的浴室柜。
本实用新型采用如下技术方案:
一种带有纸巾架的浴室柜,包括柜体(1),其特征在于:该柜体(1)侧板上枢接有一活动板(2),该活动板(2)一侧固定有一纸巾架(3),该活动板(2)与该柜体(1)侧板之间设有对活动板进行定位的定位件,该定位件定位活动板(2)使得纸巾架(3)位于所述柜体(1)侧板外侧或所述侧板内侧。
进一步的,所述柜体(1)侧板上形成有与所述活动板(2)相适配的缺口(11),所述活动板(2)通过一转轴(21)可内外翻转地固定于该侧板缺口(11)处。
进一步的,所述定位件为磁力定位件,该磁力定位件包括有若干磁铁(4)和铁片。
进一步的,该磁铁(4)固定于所述活动板(2)侧壁,该铁片固定于所述侧板缺口(11)侧壁上且与所述磁铁(4)一一对应。
进一步的,所述定位件为弹性卡扣定位件,所述弹性卡扣定位件包括有若干弹性珠和卡孔。
进一步的,该弹性珠固定于所述活动板(2)侧壁,该卡孔形成于所述侧板缺口(11)内壁且与所述弹性珠一一对应。
由上述对本实用新型的描述可知,与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:
本实用新型带有纸巾架的浴室柜,适用于各种纸巾架,使用纸巾架时用手轻推可将纸巾架一面转出,不用时可藏于柜体内,如此可充分利用柜体置物空间,省去纸巾架空间.本实用新型可避免直接在墙壁上打孔,影响美观,还能防止纸巾被水淋湿、结构简单合理,容易制造组装,物美价廉。
附图说明
图1为本实用新型的立体结构示意图一;
图2为本实用新型的立体结构示意图二;
图3为本实用新型的纸巾架、活动板和定位件的结构示意图;
图4为本实用新型采用另一种纸巾架的立体结构示意图一;
图5为本实用新型采用另一种纸巾架的立体结构示意图二;
图6为本实用新型另一种纸巾架、活动板和定位件的结构示意图。
具体实施方式
以下通过具体实施方式对本实用新型作进一步的描述。
参照图1至图6,一种带有纸巾架的浴室柜,包括柜体1和活动板2,柜体1侧板上形成有与活动板2相适配的缺口11,活动板2通过一转轴21可内外翻转地固定于该侧板缺口11处。转轴21穿设于该活动板2中部且两端固定于缺口11内壁上,使得活动板2可绕转轴21进行360°旋转。在活动板2一侧固定有一纸巾架3。活动板2与该柜体1侧板之间设有定位活动板2的定位件,该定位件可定位活动板2使得纸巾架3位于柜体1侧板外侧或柜体1侧板内侧。
定位件可以是磁力定位件,磁力定位件包括有两磁铁4和两铁片(图中未示出)。两磁铁4分别固定于活动板上侧壁且位于转轴2两侧,两铁片分别固定于与活动板2侧壁对应的缺口11侧壁上,且与两磁铁4一一对应。通常情况下,活动板2处于使得纸巾架3位于柜体1内侧的位置,此时,在磁力定位件的作用下,活动板2与柜体1侧板保持平齐,纸巾架3隐藏于柜体1内,柜体1外观与普通柜体一样。当需要纸巾时,用手轻推活动板2,使得活动板2翻转直至纸巾架3位于柜体1侧板外侧且定位的位置,纸巾架3即显现出来。
本实用新型的定位件也可以是弹性卡扣定位件,采用两弹性珠和两卡孔分别替换磁铁4和铁片,该弹性珠固定于活动板2侧壁,该卡孔形成于侧板缺口11内壁且与弹性珠一一对应。
本实用新型的带有纸巾架的浴室柜,适用于各种纸巾架。需要使用纸巾架3时,用手轻推可将纸巾架3一面转出,不用时可藏于柜体1内。如此可充分利用柜体置物空间,省去纸巾架3空间;可避免直接在墙壁上打孔,影响美观;可以避免纸巾被水淋湿。
上述仅为本实用新型的一个具体实施方式,但本实用新型的设计构思并不局限于此,凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动,均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。
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