[实用新型]一种流体对冲击式研磨分散元件

说明书

本实用新型涉及一种新型研磨分散设备中的研磨分散元件。

研磨分散设备在诸多行业及领域中广泛使用，如：涂料、粉体、食品、药品、日用化工等。研磨分散设备基础组成部件包括：驱动部分、传动部分、研磨分散部分，研磨分散效率，与驱动传动机械部件的效率、机械运行稳定性有关，但更主要的是与研磨分散部件的结构、性能密切相关。对研磨分散元件的研究一直是研磨分散设备厂商的重要课题，德国耐驰机械有限公司针对不同的研磨料及应用领域，开发出了多种类型的研磨分散元件，这些元件是该公司研磨分散机高效运行、制备出的产品质量稳定的重要原因。随着我国经济的发展，我国在研磨分散设备制造业取得了很大的发展，解决了诸多行业领域的生产问题，但如何更好地更有效地解决粉体研磨分散效率及制备产出的性能稳定是一个广泛受关注的问题。这也对研磨分散机械提出了更高的要求。这一较高要求的能否实现关系到各个行业产品质量的提高及生产过程的节能减排。而这些问题的解决与研磨分散元件的设计、结构和性能密切相关。

专利CN 2367428Y设计了一种新型湿法研磨分散机构，由分散轴、分散盘和较多的叶片组成。该设备利用具有倾角的叶片推动流体定向运动，并与分散盘相互作用达到分散的目的，该机构由多叶片与分散盘共同完成研磨分散任务，组件复杂、难以清洗，而且由于多叶片在长期高速运转的分散轴驱动下容易引起生产安全问题。CN 202143846述及一种研磨机高效研磨分散盘。盘形体的盘面上设有数个渐起于该盘形体底平面的阶形体，一种阶形体与盘形体底平面夹角在5゜～45゜，此装置盘形体上下两个盘面上至少设有2个以上的阶形体，阶形体的脊交错排列，且倾斜方向一致。该设备利用分散盘带动研磨介质高速运动而产生摩擦和剪切，使物料得到研磨和分散。该设备仅靠物料被盘面带动旋转抛射及与阶形体碰撞形成抛射，达到研磨的目的。由于物料与盘面有效作用面积小，物料在液体中粒子间相互碰撞机率小，所以难以达到理想的分散研磨效果。

针对以上技术问题，提出更合理利用能源、更安全有效的研磨分散元件是非常有必要的。

本实用新型的实施例提供一种新的流体对冲击式研磨分散元件。该研磨分散元件利用了流体中的粒子在机械带动的切线抛力作用下做正向或侧向对撞能够获得高能量、且能够提高动能利用率的原理，从而实现了高效研磨。同时，下分散盘旋转后产生向上强大的负压力，使底部流体向上运动，从而也解决了缸体底部易沉积固体形成死角的难题。

为达到上述目的，本实用新型的实施例采用技术方案：一种流体对冲击式研磨分散元件，包括上分散盘、下分散盘、分散杆。

其中，所述的上分散盘、下分散盘均呈漏斗型；上分散盘、下分散盘的漏斗底部对接，上分散盘的漏斗底部与分散杆固定连接；上分散盘、下分散盘的轴线与分散杆的轴线重合；上分散盘、下分散盘的侧壁开有通透缺口；通透缺口内侧边缘都有一个向内侧方向伸展的耳型突起。

其中，所述的上分散盘、下分散盘均呈漏斗型；上分散盘、下分散盘的漏斗底部对接，上分散盘的漏斗底部与分散杆固定连接；上分散盘、下分散盘的轴线与分散杆的轴线重合；上分散盘、下分散盘的侧壁开有通透缺口；通透缺口内侧边缘都有一个向内侧方向伸展的耳型突起。

进一步的，所述的分散杆为圆柱体，分散杆的半径为0.3～1.0cm，优选为0.5cm；所述的上分散盘与下分散盘的形状、大小均相同，且其漏斗口半径为5～10cm，优选为7cm；所述的上分散盘的轴线与其侧壁壁面的切面夹角为30°～85°，优选为60°。

进一步的，所述的通透缺口的数目为2～5，优选为3，且沿侧壁均匀分布，其形状为长方形或正方形,其宽度为0.5～1.0cm，其长度为0.5～1.0cm，面积占侧壁面积的0.5%～20%，优选为长方形,宽度为0.5cm，长度为1.0cm。

进一步的，所述的耳型突起，其形状、大小均与所述的通透缺口相同，且与漏斗型壁面的切面夹角为5°～80°，优选为75°。

本实用新型的实施例提供的研磨分散元件，与现有技术相比，能够使流体中的粒子在机械带动的切线抛力作用下做正向或侧向对撞，能够获得更高的能量、且进一步提高了动能利用率，能够实现高效研磨。同时，下分散盘旋转后产生向上强大的负压力，能够使底部流体向上运动，从而也解决了缸体底部易沉积固体形成死角的难题。

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。