[实用新型]工艺水处理反应器

说明书

技术领域

一种工艺水处理反应器，其包括：壳体，其具有侧壁；入口，其用于未处理工艺水；出口，其用于已处理工艺水；至少一个处理单元，其居中地布置在壳体内部，该壳体限定流路用于工艺水从入口流至出口；和至少一个挡板，其在布置有至少一个处理单元的沿着流路的位置处附连至壳体的第一侧壁的内部，并且朝向该至少一个处理单元延伸至流路中。

背景技术

先前已知使用UV辐射以将流体中的微生物灭活化(inactivate)。此种设备通常构造有壳体，该壳体具有用于待处理的流体的入口和用于已处理的流体的出口，并且此种设备通常依赖灯，该灯成排地定位，浸在待处理的流体中。在壳体内，至少一个UV灯居中地布置。重要的是，流动通过该设备的全部流体暴露于等量的UV辐射，并且至少暴露于最低剂量以将全部微生物灭活化。该剂量为时间与强度的积。理想地，UV光和流量跨越UV反应器而均匀地分布，从而导致全部微生物接收相同剂量。由于辐射强度与距辐射源的距离的平方成比例地降低，故远离UV灯(即接近壁)地流动的流体有不暴露于最低剂量的风险，并且因此将不被充分地处理。

为实现更理想的强度分布，建议具有偏移的、连续的、成行的UV灯的灯构造，以便行进通过一行中的灯之间的空间的流体接触或者流动接近下一行中的灯。

可在其中使用该技术的应用为例如饮用水和废水处理以及压舱水处理，但是可用在任何水消毒应用中。

实用新型内容

本发明的一个目的是提供设备，其更有效地保证尽可能多的流体暴露于最低剂量并且其中的微生物被适当地灭活化。

为解决该目的，最初限定的工艺水处理反应器的特征在于，所述至少一个挡板相对于所述第一侧壁的法线而与流动方向相反地倾斜。

通过将挡板或多个挡板与流相反地引导，不仅迫使流体远离壁且朝向布置有(多个)处理单元的区域流动，而且(多个)挡板还导致流体的漩涡和混合，这也对处理工艺有益。

而且可存在第二档板，其附连至与第一侧壁相对的壳体的第二侧壁，并且朝向至少一个处理单元延伸至流路中，从而形成成对的挡板，其相对于所述第二侧壁的法线而与流动方向相反地倾斜。

彼此相对的成对的挡板形成更窄的通道，其迫使工艺水更接近UV灯，从而确保生物体的更好的去活化(deactivation)。

而且，可存在至少一列处理单元，其在流动方向上居中地布置在流路中。

可存在多于一对的挡板，其在沿着布置有至少一列处理单元的流路的部分的不同位置处。

挡板可为能够枢转的并且能够以选定的倾斜度锁定。

挡板可具有可调节并且可锁定的长度。

反应器可竖直地布置，其中入口在反应器的底部中，并且出口在顶部中。

反应器可代替地竖直地布置，其中入口在反应器的顶部中，并且出口在底部中。

反应器可代替地水平地布置，其中入口在反应器的一端中，并且出口在另一端中。

反应器可代替地为倾斜的。

本发明良好地适合于用于远洋航行船只的压舱水的处理，其中压舱水从一个群落生境(biotope)移动到另一个，从而具有如下风险，即将不需要的生命体和生物体引入新环境中。

在压舱水处理反应器中，流动通过反应器的压舱水典型地超过100 m³/h。

本发明的另外的目的、特征、方面和优点将从下列详细说明以及从附图中呈现。

附图说明

本发明的实施例现在将作为示例参考附图而被说明，其中

图1是压舱水处理反应器的剖面图。

具体实施方式

参考图1，描绘出压舱水处理反应器1。如先前已提到的，工艺水可代替地为废水、饮用水或在任何其他消毒应用中处理的水。在压舱水处理系统中，使用的流量通常超过100 m³/h。压舱水处理反应器1包括：壳体2，其包封布置成容纳流动的压舱水的空间；入口3，在此压舱水供应至反应器1的空间；和出口4。图1中的反应器1为竖直的，其中入口3布置在壳体2的底部处并且出口4布置在壳体2的顶部处。

壳体2包括侧壁6，其在限定流路7的壳体2的顶部与底部之间延伸。壳体2内部为处理单元的组件，该组件处于如下形式，即由直管形成的UV灯5布置成纵长地延伸，并且大致垂直于大体流体流动方向F地设置，其中相应端部紧固至相对侧壁6。