[实用新型]鲜花温室大棚湿度调节结构有效
申请号: | 201320087425.1 | 申请日: | 2013-02-26 |
公开(公告)号: | CN203136658U | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | 杨皓琼;童翔;陈祖平;李其友;周谟兵;陈鸿;高红霞 | 申请(专利权)人: | 武汉市农业科学研究所 |
主分类号: | A01G9/24 | 分类号: | A01G9/24 |
代理公司: | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人: | 俞鸿;李满 |
地址: | 430345 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 鲜花 温室 大棚 湿度 调节 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及温室大棚技术领域,具体地指一种鲜花温室大棚湿度调节结构。
技术背景
现有的鲜花温室大棚的地面为全水泥地面,在水泥地面上设置有鲜花培养架,当需要增加鲜花温室的湿度时,目前采用的方法是直接向水泥地面上洒水,水份在水泥地面上蒸发后增加温室内的空气湿度。技术人员在长期的生产实践中发现水份在水泥地面上蒸发过快,温室内的空气湿度会在洒水后迅速增加,这样会给对空气湿度比较敏感的鲜花产生不利影响,同时由于水份蒸发过快也造成了水资源的浪费。
实用新型内容
本实用新型的目的就是要提供一种鲜花温室大棚湿度调节结构,该结构能适当调节鲜花温室大棚内水份的蒸发速度,创造出利于鲜花生长的湿度环境。
为实现此目的,本实用新型所设计的鲜花温室大棚湿度调节结构,包括大棚水泥地层、设置在大棚水泥地层上的鲜花培养架,其特征在于:所述鲜花培养架正下方的大棚水泥地层上开设有凹槽,所述凹槽内铺设有土层,所述土层上铺设有碎石层。
所述凹槽为矩形槽。
所述凹槽的深度为10~15mm。
所述土层的厚度为8~11mm。
本实用新型通过在鲜花培养架正下方的大棚水泥地层上开设凹槽,并在凹槽内依次铺设土层和碎石层,使得技术人员可以根据鲜花生长的需要在凹槽内灌水来提高空气的湿度。土层和碎石层能降低凹槽内水份蒸发的速度,使得凹槽内的水份能够均匀的蒸发,从而实现了温室大棚内空气湿度能受控制的均匀提高,更加有利于湿度敏感型鲜花的生长。同时,也减少了水资源的浪费。
附图说明
图1为本实用新型的俯视结构示意图;
图2为本实用新型的局部剖视结构示意图;
图中:1—大棚水泥地层、2—鲜花培养架、3—凹槽、4—土层、5—碎石层。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步的详细说明:
图1和2中所示的鲜花温室大棚湿度调节结构,包括大棚水泥地层1、设置在大棚水泥地层1上的鲜花培养架2,鲜花培养架2正下方的大棚水泥地层1上开设有凹槽3,所述凹槽3内铺设有土层4,土层4上铺设有碎石层5。根据不同的鲜花种类可以通过调节碎石层5中碎石的疏密来调节凹槽3内水份的蒸发速度。
上述技术方案中,凹槽3为矩形槽。该矩形槽略小于鲜花培养架2的底部外轮廓。由于鲜花培养架2的底部外轮廓为矩形,所述设置略小于鲜花培养架2底部外轮廓的矩形槽,能方便鲜花培养架2的放置,保证鲜花培养架2的四个脚均位于大棚水泥地层1上。
上述技术方案中,凹槽3的深度为10~15mm。所述土层4的厚度为8~11mm。上述凹槽3深度和土层4厚度的设计能保证凹槽3内水份的蒸发速度满足湿度敏感型鲜花生长的要求。
技术人员在应用本实用新型的结构时,通过水管向凹槽3内灌水,水份被碎石层5和土层4吸收,然后由于温室内的温度较高,水份会缓慢均匀的从碎石层5和土层4中蒸发出来,从而提高鲜花培养架2周围的环境湿度。对于不同种类的鲜花,可以根据该种鲜花对环境空气湿度的要求,通过调节碎石层5中碎石的疏密来使凹槽3内水份的蒸发速度满足特定鲜花对环境湿度的需求。
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