[实用新型]校准装置有效

专利信息
申请号: 201320046458.1 申请日: 2013-01-28
公开(公告)号: CN203037841U 公开(公告)日: 2013-07-03
发明(设计)人: 陆德坚;张立垚;朱琨;黄维 申请(专利权)人: 北京森馥科技有限公司
主分类号: G01R35/00 分类号: G01R35/00
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 姚文新
地址: 100012 北京市朝阳*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 校准 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及检测领域,特别涉及一种对直流场强检测仪的校准装置。

背景技术

在电力行业标准《直流换流站与线路合成场强、离子流密度测量方法》(DL/T1089-2008)中要求:对场磨的校准不是利用精确的场磨以对比的方式来校准,而是用建立可以计算电场和空间电荷的校准装置,以被校场磨的读数与计算相比较的方式进行校准。上述的电力行业标准中还指出:在两块无穷大的平行的平板之间的电场,就是可精确计算出来的均匀场源。实验表明,在与边缘的距离大于板间距离的地方就已可以看作是均匀场了。校准时场磨的静片需与底板取平。

对于这一要求,现有技术中采用两块水平安置的金属平板产生均匀电场,位于下方的金属平板在中心处开孔,使安置就位的金属平板通过开孔搭在检测仪的主机上,使检测仪顶部的扇叶刚好穿过开孔,然后进行校准操作。

在实际操作时往往需要来回移动金属平板使检测仪顶部扇叶与开孔对准。然而,这种方式存在以下问题:首先,水平安置的金属平板由于其自身重量会使平板在中心处下陷,从而导致两块金属平板不再平行,影响电场的均匀性,进而影响校准精度;其次,现有技术采用的两块金属平板的间距是固定不可调的,由此对用于提供场强的高压直流电源的电压范围有很大限制;另外,金属平板体积较大且自重较大,因而其移动操作非常不便。

实用新型内容

本实用新型的实施例提供一种校准装置,用于校准直流场强检测仪,能够方便可靠地提供校准电场。

根据本实用新型的一个方面,提供一种校准装置,用于校准直流场强检测仪,包括:

绝缘底板;

用于产生直流电场的高压直流电源;

相互平行的第一金属平板和第二金属平板,其竖直地安装在所述绝缘底板上,并分别电连接到所述高压直流电源的正极和负极以在所述第一金属平板和第二金属平板之间形成电场空间;

可拆卸的绝缘支柱,其被连接在所述第一金属平板和第二金属平板之间以保持所述第一金属平板和第二金属平板的间距;

绝缘支撑座,其安装在所述绝缘底板上,并在与所述绝缘底板相反的一侧具有用于支撑直流场强检测仪的凹口,所述凹口与所述第二金属平板上的透孔对准。

优选地,在本实用新型的各实施例中,所述第一金属平板和第二金属平板是大小相等的正方形或长方形的金属平板。

优选地,在本实用新型的各实施例中,

所述第二金属平板上的透孔是圆形的;

和/或

所述凹口是半圆形的或半方形的。

优选地,在本实用新型的各实施例中,所述绝缘支柱连接在所述第一金属平板的边缘区域与所述第二金属平板的边缘区域之间,其中所述多个绝缘支柱在所述第一金属平板或第二金属平板上相对于所述第一金属平板或第二金属平板的中心对称地或不对称地分布。

优选地,在本实用新型的各实施例中,所述绝缘底板上包括:用于容纳所述第一金属平板和/或所述第二金属平板的边缘的一个卡槽或多个相互平行的卡槽。

优选地,在本实用新型的各实施例中,

所述绝缘底板上具有轨道,所述轨道与安装到所述绝缘底板上的所述第二金属平板的边缘平行,所述绝缘支撑座通过所述轨道安装到所述绝缘底板上并能够沿所述轨道而水平运动以调整所述绝缘支撑座上的凹口与所述第二金属平板上的透孔之间的相对位置;

和/或

在所述绝缘底板与所述绝缘支撑座之间,具有升降结构,所述绝缘支撑座能够利用所述升降结构安装到所述绝缘底板并能够竖直运动以调整所述绝缘支撑座上的凹口与所述第二金属平板上的透孔之间的相对位置。

优选地,在本实用新型的各实施例中,所述绝缘支撑座具有:竖直的座侧面,所述座侧面抵靠支撑所述第二金属平板在所述电场空间之外的板侧面。

优选地,在本实用新型的各实施例中,

所述绝缘支柱包括一组或多组绝缘棒,每组所述绝缘棒通过所述第一金属平板和第二金属平板的水平对准的一对固定孔而连接在所述第一金属平板和第二金属平板之间,每个所述绝缘棒具有螺纹端和螺孔端,在同一组中的所述绝缘棒是单个绝缘棒或者是通过螺纹端与螺孔端啮合而依次首尾相连的多个绝缘棒,其中,

在包含仅单个绝缘棒的所述组中,所述绝缘棒的螺纹端穿过所述第一金属平板或第二金属平板中的定位孔至所述电场空间外啮合一螺母而固定在所述第一金属平板或第二金属平板上,所述绝缘棒的螺孔端啮合从所述电场空间外穿过所述第二金属平板或第一金属平板中的定位孔的螺栓的螺杆部分而固定在所述第二金属平板或第一金属平板上;

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